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技術專文

圖2、台灣半導體產業協會全氟化物排放減量技術發展時程

圖4、電熱水洗式Local scrubber

② 燃燒水洗式
燃燒水洗式，為目前發展最完善的形式，廢氣進入燃燒
室後，藉由是利用燃料如H 2 或CH 4 與空氣，以大於1000℃高溫
燃燒，將廢氣中有害氣體高溫破壞裂解，轉換成具親水性之
化合物如HF、HCl，後段再以水洗、吸附等方法去除剩下的尾
圖3、TSMC含氟氣體減量目標時程 氣再以水洗方式吸收受高溫裂解的廢氣。洗滌吸收液以循環
再使用方式作業，若洗滌吸收液的pH值超過設定值即補充新
2.2 TSMC使用各type Local Scrubber原理說明 液，故設定循環再使用洗滌液一般為20~25lpm，用水量約為
0.5~2.0lpm，處理流程如 圖5燃燒水洗式Local Scrubber。
TSMC在製程廢氣中規定，燃燒性、腐蝕性、毒性、
PFC等製程廢氣需加裝Local Scrubber才能排放至Central
Scrubber，而Local Scrubber有數十種廠牌及型號，大致可分
別為電熱式、燃燒式、電漿式、吸附式及水洗式五種型式，視
[03]
使用製程尾氣的種類，需安裝不同型式的Local Scrubber ，
以下針對各種Local Scrubber進行簡單介紹。

① 電熱水洗式
利用加熱器(Heater)產生之高溫場，氧化，破壞廢氣中的
有害物質，再將此廢氣送至後段的濕式洗滌系統。高溫加熱
器的成分主要是碳化矽(SiC)，溫度可加熱約850°C，除了一般

SiH 4 、WF 6 、NH 3 、HF、Cl 2 ，這類設備亦可處理PFCs中的NF 3
氣體。但此類型局部尾氣處理設備對PH 3 等氣體，因加熱棒的
限制處理效果較差，某些氣體在高溫燃燒的過程中無法分解或
氧化，藉由濕式洗滌過程中可將其溶解於水中(如HCl、HBr、
圖5、燃燒水洗式Local Scrubber
Cl 2 等氣體)。製程廢氣經由酸性排氣將氣體抽高溫熱反應槽
後，與槽內空氣反應。加熱過程中這些氣體經分解或氧化過程
③ 電漿式
產生粉末，所有的粉末會被沖刷排放至廢水處理槽，無害氣
體則被抽到酸性排氣系統，處理流程如 圖4電熱水洗式Local 因PFCs為人造氣體，為極穩定很難裂解處理的溫室效應
Scrubber。 氣體，非常不易分解，電熱式及燃燒式Local Scrubber因溫度
[02]
上的限制，對PFCs之去除效果不彰。電漿破壞法 主要工作
原理是利用高溫電漿放電產生高溫火炬，對全氟碳化物氣體
破壞與去除 ，而電漿式對C 4 F 6 、CF 4 、C 5 F 8 等常見之全氟化
[05]
物去除效率高，而其副產物主要為CO 2 與HF，而電漿式Local
Scrubber，多用於蝕刻製程，以去除難以處理之全氟化物，處
理流程如 圖6電漿式Local Scrubber。

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