Page 17 - Vol_51

TSMC/ Facility Published

3.2.1 錯排管路分流 3.2.2 錯排管路改管

依據空污申報法規檢討排放煙囪模式，固定式污染源 依照改善對策 - 廠內污染物質量平衡圖建立完成後，
公私場所處理設備處理設備之排放管道，需依法申報 F3 C-line GEX Submain 濃 度 > 3ppm， 經 THC 移
排放量。檢視 F3 D-line 排放管道為空污防制處理設 動式分析儀查證為 Wet Bench IPA 槽溢散至環境排
備 (SEX&AEX) 與一般排氣 (GEX) 共用排放管道，以 氣 (GEX)，量測 NMHC 高達 250ppm。與設備確認為
致申報排放量需將一般排氣 (GEX) 一併加入申報排放 Tool 分隔槽設計先天缺失無法修改後，決議將 GEX
量中，造成排放量計算增加與排放濃度稀釋問題。經 排氣改接至 VEX 經沸石轉輪處理系統後排放。至於
檢討排放管道設計後如圖3 所示，進行排放管道分流 經 HPM 槽排入 SEX 之 IPA 廢氣，未來將設置 Local
解決上述問題。 Wet Scrubber 進行酸性氣體前處理後接至 VEX 系統
以達改善目標。( 圖4)

圖 4：F3 Wet Bench 機台內部與排放風管 NMHC 污染
貢獻示意圖

3.3 全面翻新專案 - 設置 LWS 處理設備
針對高濃度排放污染源處理對策，在這以圖2 污染源
頭 Quartz Clean 改善舉例，本文以現址式 LWS 填充
層材質變更進行效率提升方法來達排放減量之目標。
圖 3：F3 D-line 煙囪排放流向示意圖 如圖5 所示，LWS 為立塔設計將標示 (1)&(2) 部分填
2
3
充材由傳統拉西環 (97 m /m ) 變更為比表面積較大的
3
2
蜂巢式填充材 (Honeycombs 500 m /m ) 替代可有效
增加氣體與液體接觸面積，並進行液氣比參數調整實
驗找出最佳處理效率參數。實驗結果於章節結果與分
析說明。

��
��