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TSMC/ Facility Published

結果與分析

4.1 廠內 N3 Thin Film Function DRE 量測結果

廠內的 N3 Thin Film 製程，主要需要處理的製程特氣 測試數據如表2，先以正常的燃氣比 1/2 搭配不同 ACC
為 SiH 4 、NF 3 、N 2 O，其中 N 2 O 因處理溫度較高，為 N2 量進行測試：
此製程廢氣中的指標氣體，且 N 2 O 分解後會產生 NOx
即 fuel NOx，所以在 NOx 減量上較具有挑戰性，本次 ➀ Test #1~3、10~12- 可以得出隨著 ACC N2 量的增
測試使用 DAS Styrax 機型 LSC 搭配 ACC 及燃氣比調 加，N 2 O 的去除效率隨之增加，且排放的 NOx 副
整，在主機台正常 run recipe 的廢氣處理條件下，進 產物濃度則下降。
行 DRE 量測。( 圖6)
➁ Test#4~9- 調降 NG 流量或降低燃氣比，N 2 O 的去
除效率則隨之降低，但 NOx 的生成量隨之減少，
但降低燃氣比可能導致燃燒不完全而產生另一副產
物 CO(Test#4)。

圖 6：DAS Styrax DRE test result

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