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TSMC/ Facility Published
參考文獻
01. 設計部 NFDD Water 60% Design Material.
02. Y2023 N3 Workshop Material.
03. F12P8 WSR 稀釋法 Material.
04. GCMS 應用 Material.
05. iFaxt 應用 Material.
作者介紹
郭中閔 C.M. Guo
一分耕耘、一分收獲。
No Pain No Gain.
劉家亨 J.H. Liu
十倍心血、十倍付出、十美十全。
Ten times the hard work, ten times
the effort.
鍾友維 You Wei Zhong
努力不一定成功，不努力一定不會成功，
期許自己能夠一直努力做對的事情。
李韋德 Wade Lee
Work hard & Play hard ，持續精進。
劉憲文 Wayne Liu
今年邁入第 18 年，期許自己維持初衷，
保持正向積極的態度，持續學習與成長，
對公司有所貢獻。
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