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TSMC/ Facility Published

結論

本研究欲探討硫酸稀釋溫升是否適用於各廠之可行性 05. K.T Lu, C.C. Yang, P.C. Lin, The criteria of
與實用性，同時比較文獻回顧之理論計算及實廠試俥 critical runaway and stable temperatures of
之測試結果，結論如下： catalytic decomposition of hydrogen peroxide
in the presence of hydrochloric acid.,
❶低濃度廢酸升溫效果理論及實廠測試結果相符，如 Journal of Hazardous Materials B135(2006)
稀釋目標濃度增加，溫度將下降，因此預期當硫酸 319-327.
濃度小於 70% 時，升溫效果無法達適合反應溫度。
06. A. Getnet, A. Jejaw, A. Bekele, C.
❷高濃度廢酸雖稀釋溫升急遽，以批次固定添加量及 Venkatachalam, Thermal System Design for
速率，再搭配熱交換降溫效率，可將反應溫度控制 Sulfuric Acid Dilution Device - A Case
於 82 至 83 度內，為後續適合反應溫度。 of Awash Melkassa Aluminum Sulphate and
Sulfuric Acid S. Co., International Journal
❸低濃度雙氧水之廢酸經比較傳統鹽酸催化法及稀釋
of Recent Technology and Engineering(IJRTE)
溫升搭配鹽酸催化法之鹽酸品質，殘餘氯鹽濃度低，
ISSN: 2277-3878(Online), Volume-8 Issue-5,
有助於硫酸銨結晶乾燥系統穩定，甚至對於後續公
January 2020.
司推動廢棄物再利用有顯著之幫助。
❹新廠建廠初期因供應品質及潔淨度要求，使用大量化
學品沖洗桶槽及灌充與供應管線，因此廢酸濃度幾
近原酸，藉由稀釋法搭配鹽酸催化法，系統可以較
作者介紹
安全方式進行，並解決新建廠初期外購硫酸之問題。

林冠宇 Vincent Lin
廢硫酸創新運轉手法要歸功於敬榮哥給
參考文獻 予信心及指導，讓我大膽創新，同時也
謝謝建翔哥及宜樂哥從旁提點運轉小細
節，希望此運轉手法能讓未來廠區受用
無窮。
01. 李國智，低濃度氫氧化氨、雙氧水混合物在深溝渠
式記憶體，2009，國立交通大學。 王建翔 Ivan Wang
02. Ohmi, T.,“Total Room Temperature Wet 廢硫酸回收系統運轉多年，很幸運能從
Cleaning of Silicon Surface.”, Journal 旁協助冠宇創新思維 - 稀釋法之實務導
入。廠務系統處處都是改善提升的機會，
of the Electrochemical Society, vol. 143,
關鍵是你能不能堅持到成功的最後一刻。
issue.9, pp. 2957-2964, 1996.
03. J.C. Leung, H.K. Fauske, Runaway system 陳宜樂 Yi-Leh Chen
characterization and vent sizing based on 榮幸參與團隊創新運轉手法，唯有努力
DIERS methodology, Plant/Oper. Prog. 6(2) 與堅持才會享受果實的甜美，共勉之。
(1987) 77‒83.

04. J. Singh, Sizing relief vents for runaway
reactions, Chem. Eng.(1990) 104‒111.

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