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竹科十二廠四期電化學電鍍製程區 攝影 / 林瑞昆 影像處理 / 洪湘寧

前言 要求ECP區域環境IPA需低於10ug/ 引入至ECP環境(約占30%)，如 圖1
m3。ECP區域IPA主要來源為外氣 ECP區域IPA來源示意圖 。
[1]
空調箱(Make-up Air Unit，MAU)
異丙醇(Isopropyl Alcohol, IPA)為 引入，汙染源來自於本身或鄰近廠 圖2為F12P4/5 MAU進氣口的IPA
常見之溶劑，普遍用於機台清潔與 區煙囪排放(約佔70%)，其次為化 濃度與鄰近煙囪排放及季節風向模
晶圓清洗製程，已有許多案例證實 學研磨製程(CMP)機台洩漏或蝕刻 擬結果，說明當夏季西南風及靜
IPA對於電化學電鍍 (ECP)製程之 機台保養使用IPA擦拭，經由自動 風時煙囪排放IPA將影響MAU進氣
晶邊良率具有極大的影響，製程更 化搬運系統夾帶氣流或自動門開啟 口，冬季東北風時MAU進氣口不受

台北科技大學冷凍空調研究所畢業，於 F12P4/5 機
瑞 昆 械課服務 10 年，曾任 HVAC、CR 及 AMC 系統管理
工程師，喜歡唱歌、看電影、小酌及旅遊，希望能在
廠務專業上持續進步及貢獻一己之力。
林 Jui-Kun Lin

300mm FABS FACILITY JOURNAL JUNE 2018 37