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Tech
Notes
技術專文
表 7、工研院與廠內實測比較 (Edwards Atlas)
製程 LSC機型 運轉參數 指標物種 inlet 濃度(ppm) outlet 濃度(ppm) DRE去除效率
工研院檢測 Etch Edwards-Atlas NG : 46.8 slm CF 4 7,327 8.1 99.9%
O2 : 35.9 slm+Air
廠內實測 Etch Edwards-Atlas NG : 42 slm CF 4 1,550 7 99.5%
O2 : 27 slm+Air
圖15、廠內實測DRE test(Edwards Atlas-空燒)
100 0.7
outlet-CO
90
outlet-HNO 2 0.6
HNO 2易分解為NOx
80 (2HNO 2→NO+NO 2+H 2O)
70 0.5
60
0.4
CO (ppm) 50 HNO 2 (ppm)
40 0.3
30 0.2
20
0.1
10
0 0
15:17 15:20 15:23 15:25 15:28 15:31 15:34 15:37 15:40
Time
表 8、廠內實測 DRE 彙整表 (Burn Local scrubber)
LSC機型 製程 運轉參數 指標 inlet 濃度 (ppm) DRE 去除效率 By-Product
物種
工研院 廠內 負載率 工研院 廠內 OI規範 工研院 廠內實測
檢測 實測 檢測 實測 (M-C00-16- 檢測
03-002)
DAS-Styrax N-EPI NG : 15.5 slm SiH 2 Cl 2 16,381 9,274 56.6% >99.9% >99.9% >95% 未檢出 未檢出
CDA : 124.5 slm
HCl 53,069 47,958 90.4% >99.5% >99.5% >95%
Edwards- P-EPI NG : 24.5 slm SiH 2 Cl 2 12,000 10,734 89.5% >99.9% 99.9% >95% CH 4 : CH 4 : 115 ppm
Helios CDA : 100 slm 3.4 ppm CO: 228 ppm
Edwards- Etch NG : 36.4 slm CF 4 1,015 477 47.0% 99.9% 99.7% >90% 未檢出 CO: 189 ppm
Atlas (VEMHL2) O 2 : 18.5 slm+Air
12,415 231 1.9% >99.9% >99.9% >95%
CHF 3
Edwards- Etch NG : 42 slm CF 4 7,327 1,550 21.2% 99.9% 99.5% >90% 未檢出 NO: 33.7 ppm
Atlas (VEMHL3) O 2 : 27 slm+Air HNO 2 : 1.1 ppm
CO: 126 ppm
Edwards- Etch NG : 24 slm - - - - - - - - HNO 2 : 0.6 ppm
Atlas (不進氣, O 2 : 0 slm+Air
乾燒)
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