Page 77 - Vol.30
P. 77
Application of Demister in
Removal
Performance
Enhancement of Inorganic
Acid and Base in Scrubber
水力薄膜應用於洗滌塔中
無機酸鹼去除效率之探討
半導體製程中經常使用到大量的有機溶劑及化學酸鹼溶液,部分化學物質會經由揮發或者高溫霧化而被排
氣系統所收集至中央洗滌塔處理後排放,其中以濕式蝕刻製程因酸鹼混排延伸出排氣風管結晶與煙囪排放
白煙以及硫酸微粒等問題最為困擾,以 Caro’s tool SU3X00 煙道為例,煙道排放採樣分析結果發現硫酸
濃度最高佔 96%,而其他無機酸則只佔 4%,另外分析硫酸汙染物組成則發現液滴 ( 微粒 ) 成份佔 99%,
氣態則只佔 1%。濕式洗滌塔使用灑水與拉西環增加氣液接觸比達到廢氣補集與酸鹼中和,此機制對於廢氣
中的微粒處理效果有限,因此本文係於濕式洗滌塔導入新型多孔性除霧器,有效改善煙道硫酸微粒,硫酸
液滴 ( 微粒 ) 去除率由 3.8%/17.5% 上升至 50.3%/51.4%。
關鍵詞/ 高溫霧化、濕式洗滌塔、硫酸
Keywords/ High Temperature Atomization, Wet Scrubber, Sulfate
文│張皓隆│南科廠務三部│
前言 的標準。目前台積處理方法主要是經由排氣專
管全面收集,避免廢氣未經處理直接排放。另外
尾氣處理方式則是經由強化現址式設施 (Local
在半導體的製程中使用了多種毒性、可燃性氣體
Scrubber)處理,並透過改善中央多段式處理
及強酸等危險化學藥品,所以排放大量殘餘尾
氣,如矽甲烷(SiH4)、氟化物、氫氣及反應 (Central Scrubber) 效率達到空污減量之目的,如
而成之細微粒等。為符合國內的環保法規所訂定 圖1示。
台北科技大學能源與冷凍空調研究所畢業,先前於石
皓 隆 化廠廠務儀電課任職,經過三年的經驗累積,轉職加入
台積電廠務大家庭至今已三年,曾歷練過 AMC、AAS
系統,希望利用所學可以對廠務技術提升有所突破。
張 H. L. Chang
300mm FABS FACILITY JOURNAL JUNE 2018 77