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TSMC / FACILITY DIVISION PUBLISHED
VOL.39
廠務季刊
URL.http://nfjournal/
AMC濃度分布圖之視覺化管理
Visual Management for AMC Concentration Map
關鍵詞 / Keywords
氣態分子污染物 / AMC
AMC防治管理 / AMC Prevention and Control
AMC濃度分布圖 / AMC Concentration Map
1. 前言
隨著半導體製程的快速演進，製程越來越精細，無塵
室生產環境潔淨度也日益嚴苛，而AMC管理控制更是影響
良率的關鍵因數之一。許多文獻研究指出AMC對製程的重
要影響，如造成晶片腐蝕、線寬的改變、膜厚降低及電性
的改變等影響製程良率問題。因此，廠區針對AMC污染物
監測，每年投入大量的分析儀器設備成本及人力巡檢資源
，面對更為嚴峻的製程低濃度規格，如何在異常污染發生
前快速預警及降低人員查漏時間等問題上，以更有效的
AMC監控方式進行管理，儼然成為現今一大課題。
蔡廷亞 T.Y. Tsai
國立台灣科技大學機械所畢業。加入F12B運轉團隊，投入不熟悉
的AMC領域，感謝主管們的指導及同事們間的互相交流，學習到
許多寶貴的AMC經驗，期許自己未來能更加精進，貢獻一己之力。
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Tech 9 10
Notes
技術專文
文│蔡廷亞 邱保仁 │ 竹科廠務三部 廠務處│
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摘要
半導體製程之快速演進，氣態分子污染物(Airborne Molecular
Contamination, AMC) 對於半導體廠的製程良率具有顯著影響，普
遍於機台清潔與晶圓清洗製程或自廠排放及外氣蓄積進入FAB，造
成環境及機台化學濾網更換頻繁，衍生龐大化學濾網費用及廢棄物
處理，且AMC的防治管理往往需費較多人力與物力資源，而AMC污
染具有低濃度、監測不易的特性，加上日益嚴格的檢測標準，在進
行AMC污染源的防治上，往往分秒必爭，若有一套更直觀的AMC資
料呈現方式，則可以提高管理決策的執行。
本文提供一套全新的AMC管理方式，透過AMC濃度分布圖視覺
化效果，提供廠區完整且直觀的污染區，掌控該區AMC濃度分布狀
況，當FAB發生AMC異常時，可加速改善和有效防止污染區擴大。
2. 文獻探討
為了能更有效的AMC管理方式，需發展出一套可總覽
無塵室全區的污染物濃度分布圖，提高管理決策的執行，
加速污染源的環境改善。但利用有限的已知環境資料點，
推估環境未知點位的資料數值，確實是一大新的挑戰。在
過去文獻上繪製污染物濃度分布圖的主要方式有兩種 ，
[1]
其一為空間推估法(Spatial Interpolation)，它是利用空間
中已知點的數值，推出空間中其他地方的數值 。其推估
[2]
法理論所使用參數，僅由污染物濃度及其位置距離所組成
，並未對其它條件有所限制，優點為參數設定單純，並不
需要大量的模擬運算，可以即時出圖顯示。
邱保仁 Harbor Chiu
當你遇到一些問題，不能解決的時候，或是憂慮，或是煩躁，或是痛苦
......這時候，不如先試著放下心情，放下自己的煩惱，靜下心來。加入
F12B 運轉團隊兩年，學習許多新廠經驗，愉悅的表情來自樂觀的心。
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