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Tech 53 54
Notes
技術專文
TSMC / FACILITY DIVISION PUBLISHED
VOL.39
廠務季刊
URL.http://nfjournal/
AMC智能監控應用於黃光Lens早期汙染預警防護及濾網效率檢測機制
Intelligent monitoring Method in AMC is applied to Litho Lens for early pollution
prevention and filter efficiency detection mechanism
文│蕭睿呈│南科廠務1廠務一部│
關鍵詞 / Keywords 摘要
空氣微汙染監控 / AMC Monitor 半導體產業按照摩爾定律蓬勃發展，對於無塵室內的溫溼度、氣態分子汙染
空氣微汙染濃度分布 / AMC Contour 物等生產環境品質的控管越趨嚴格，影響著製程區域產品良率。廠務端以自
濾網 / Filter 動分析儀器對環境進行AMC定點監控已成為各廠標準模式，並輔以人力至
工業4.0 / Industry 4.0 現場巡檢。本篇為加強黃光機台端AMC監控，在環境、MA供應機台入口端
及出口端建置AMC採樣點，提供廠務端三大好處。第一 : 早期汙染防制提
供第一道預警機制，第二 : 回傳值經過計算，為機台濾網進行即時效率檢測
，提供機台汙染防制第二層把關。第三 : 利用該區廣布的inline採樣點，導
入即時AMC濃度分布圖，在AMC異常時可藉由視覺判斷，協助值班減少漏
源位置分析的時間，進而減少對產線影響的時間，如此為下個世代的晶圓廠
生產環境品質提供更嚴格的把關。
1. 前言
氣態分子汙染物Airborne Molecular Contamina- 時，第一時間無法知道對該區眾多機台影響情況，只能逐
tion(AMC)的控管，對於近年來發展迅速的半導體製程有 一進行機台濾網更換，並同時更換全區FFU濾網。此外也
著密切關係，為晶圓廠獲利中不可或缺的一環。尤其在黃 需出動巡檢人力以手持儀器或offline採樣方式對現場漏源
光區，Scanner Lens機台是用來引導與控制曝光的光學元 進行偵查及防堵，流程如 圖3所示。如此耗時耗力，只因
件，受汙染後的光學元件將產生霧化現象，如 圖1所示， 無法為機台提供早期預警。故廠務工程師與設備工程師首
造成機台對焦偏移問題，影響機台產品良率，如 圖2所示 次合作，在Scanner Lens前端進行AMC即時監控，為提供
，並且影響光學元件壽命。深究其原因，往往沒有一套早 給Lens的潔淨空氣進行有效的把關。
期預警機制的建立。廠務端根據OI定義，無塵室內獨立迴
風區需設置AMC Inline監控點來代表該區AMC的狀況，但
並無法針對各機台進行把關。假設機台大量洩漏微汙染物
蕭睿呈 Rich Hsiao
中正機研所畢業，歷經航太設計製造後，於2011年輾轉加入台積電廠務大家庭，投身於HVAC及
無塵室空調系統運轉累積實務經驗，2016年參與廠務學院機械系統設計及監造。目前於無塵室空
氣品質監控及AGV自動化發展貢獻己力，期待台積電未來能全面朝工業4.0發展。
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