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Tech 55 56
Notes
技術專文
TSMC / FACILITY DIVISION PUBLISHED
VOL.39
廠務季刊
URL.http://nfjournal/
CWR機台IPA逸散減量與區域防禦機制
Local Defense and Reduction of IPA from CWR area
文│黃子郝 黃柏諺 王壹龍│南科廠務2廠務一部│
關鍵詞 / Keywords 摘要
空氣為汙染分子 / AMC 環境中AMC污染會對產品良率造成影響，先進製程對AMC要求亦更加重視，目
異丙醇 / IPA 前AMC防護中，IPA因為其分子量小、沸點低等特性，AMC濾網的防護較無法持久，
區域防禦機制 / Local defense 為此IPA源頭減量及區域防禦也更加重要，在CWR製程中設備端使用大量IPA，並且造
成大量逸散，如何避免CWR與相鄰的ECP製程區IPA交叉污染則更加重要，本文將討
論如何從設備端及廠務端，進行CWR區域IPA的防禦。
1. 前言
隨著科技進步，5G及人工智慧的時代已經來臨，對於 期望可將CWR的IPA污染隔離，避免CWR區域的IPA影響
運算晶片的需求及效能也呈幾何式的增長，高階製程的重 到其他區域，建立起完善的CWR機台IPA逸散減量與區域
要性也越發凸顯，為了減少無塵室環境對產品良率的影響 防禦機制。
，高階製程中針對AMC問題進行有效減量與管制也越發被
重視 。 2. 文獻探討
[1]
在現行半導體製程中，wet clean為晶片清洗的必要製
負壓病房建立方法與應用
程之一，但也伴隨大量MA、MB及MC污染，在wet clean
製程中CWR區域更是應用大量IPA進行清潔 [2][3][4] ，造成 負壓病房於現今的醫療中廣泛使用，不管是2002年
CWR區域環境IPA濃度偏高，在本廠中AMC高敏感區ECP SARS事件乃至2020年新冠肺炎的事件，負壓病房的存在
更是與CWR緊鄰相接，現行IPA污染主要靠AMC filter進行 提高良好的病源隔絕以及大量提高疫情控制的效果 。負壓
處理 ，然而實務經驗上現行AMC filter針對Acetone及 病房目的為控制具感染性之病原體於固定空間內，避免造
[5]
IPA的去除是最為困難的，造成ECP區域的IPA濃度更是面 成外界感染，現今在設計負壓病房尚有諸多規範，包含：
臨嚴峻的挑戰。 風口位置、負壓大小、換氣頻率、氣密程度 ，在本次研
[6]
為了迎接如此嚴峻的挑戰，針對CWR區域的防守戰也 究中，借鑒此種污染封鎖的概念，將CWR區域IPA視作病
因此如火如荼的展開，本研究參考來自負壓病房的案例， 原體，建立「類」負壓病房將污染物隔絕，參考其建立規
黃子郝 Tzu-Hao huang 黃柏諺 Po Yen huang 王壹龍 Eric Wang
國立台灣大學環境工程研究所畢業。2019年4月 加利福尼亞大學爾灣分校機械所畢業。2019年 國立交通大學機械研究所畢業。2013年~至
加入台積電十八廠廠務機械課，目前負責F18P2 4月加入台積電十八廠廠務機械課，目前負責 今，於廠務機械課AAS，AMC.CR等系統運
AMC系統，致力於無塵室AMC改善。 F18P2 CR系統，致力於無塵室溫濕度穩定及 轉並參與AAS自動啟停機及IoT傳輸專案，
運轉優化。 現負責F18AP3 AAS系統
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