Page 76 - Vol.28
P. 76
Tech
Notes
技術專文
Introduction of
EUV Foundation
Installation
談極紫外光微影掃描設備基座安裝
現今半導體先進製程產業已是不進步就是退步的高度競爭之中，隨著產品愈來愈精密，設備機台對於安裝環境的
需求也相對愈來愈高。以基座（Foundation）而言，從一開始的載重需求至微振動需求，進而增加剛性的需求，
每一個需求都會增加設計與安裝上之難度。Foundation 的設計，不論在載重能力、微振動需求、剛性需求都必須
達到其高精度要求規格，而安裝過程中，每個孔位之精度規格需求更是高精密規格。為達到其要求之精準度，裝
機工程單位引進高科技精密萊卡 3D 追蹤儀進行輔助安裝檢測，如此才可達到設備要求，並順利裝機。本文將探討
在各個階段中， 曝光機（Scanner）基座的發展、製作與安裝過程，而敘述重點會著重在極紫外光微影（EUV）之
Foundation 介紹。
關鍵詞 / 極紫外光微影、基座、高精密量測、電腦數值控制
Keywords/ Extreme Ultra-Violet (EUV), Foundation, High-Precision Measurement, Computer Numerical Control (CNC)
1
1
2
2
1
文│鄧元豪 黃士哲 彭育倫 │ 新廠工程管理部 協崑有限公司│
76
竹科十二廠七期無塵室基座 攝影 / 鄧元豪 影像處理 / 洪湘寧
