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表2、CDS供應系統新舊世代差異 輸送之機台端。而Mega系統設計與化學品供應系統混酸較
相近，為Primary或Secondary Module完成混酸後會藉由分
析儀器測定QC，確認濃度值正常後會處於Standby狀態，等
待另一側使用完後切邊使用。混酸比例主要是透過重量控制
加入Slurry、H 2 O 2 、DI，並利用隔膜式Pump循環充分混勻。
同時也利用此Pump當作供應Slurry之動力來源。新廠區的設
計大不同於此，混酸的設計為藉由定量式的容器確認Slurry、
H 2 O 2 、DI的固定量落料到Mixing tank進行混酸後QC確認無誤
再打到Supply tank ，另外不同的是整個系統設計是採用磁
[04]
浮式pump進行混酸和供應。
圖3、化學研磨液供應系統上下游示意圖
表3、化學研磨液供應系統新舊世代差異
圖2、化學品供應系統上下游示意圖 [03]
2.3 化學研磨液供應系統新舊世代比較
Slurry供應架構可分為混酸系統和供酸系統，如 圖3。
Slurry在供應至機台端之前會藉由混酸系統將Slurry原液、DI
水和雙氧水依照重量比或體積比充分混和後，再經由分析
儀器檢測雙氧水濃度或比重後，再藉由供酸系統中Pump或
Pressure Vessel維持供應路徑一定壓力至機台。 3. 計畫方法
新舊世代化學研磨液供應設計上的差異(表3)，以六廠為
3.1 現行供應系統架構修改
例，可分為兩種供應系統BOC Isis以及Mega系統，以Isis機台
根據六廠以及新工處供應系統相互比較，可以發現有許
混酸的設計為藉由各自獨立的Slurry、DI、H 2 O 2 Pump stroke
多地方值得去學習和參考。以特氣供應系統來說，新廠設計
次數，傳送到Mixing Module藉由定體積比內部擾流達到混
供應電源以直流24V中央供應為主並搭載雙電源迴路提高可
和效果，並透過Control Module確認混和雙QC，再供應至
靠度，控制器以PLC為主，避免Phase out廠商供應鏈不足問
Dispense Module，並藉由Wet N 2 將Pressure Vessel內之Slurry
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