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TSMC/ Facility Published

3.2 化學系統驗機管控排程與調度

以 18B 經驗為例，第一階段透過 DI 洗桶程序，配合 在洗桶的執行階段，提前部屬驗機人員來銜接整個
Lorry CCBTU 與 CDU 加測 LPC 驗證，會加速進酸後機 commission team，讓整個系統在測試的過程中能有一
台 wet pa 驗機速率，P6 在時間不足的情況下修正低 致性，避免過多的缺失重複發生，引導整個工程走向更
中高液位 DI flush 次數從 5/4/3 改為 3/2/1，後續驗證 貼近 CST 裝機的需求 ( 如表2)，機台調整到位就可以
LPC 結果 pass；接著第二階段進酸 flush 程序，包含 交接給 sign off team 接手進行警報與通訊測試，在第
Lorry out / Soaking / VMB flush，經過 lorry out 置換 一波送酸的關鍵要素，首先是機台通過 sign off，再來
以及 soaking 泡桶過程大部分的金屬離子可以被排出 原物料進酸前排定 flush 程序，避免廠商人力不足或物
主系統，但是 Loop 上的 VMB/FT-BOX/E-BOX 閥箱與 料受限，提前安排桶槽置換 (lorry in/out) 時序，可使
管路，以往要花費很長時間靠設備 A1 port flush 來排 人力與物力能穩定跟上送酸需求，管控線上需求制訂洗
除 particle 與 mini-bubble，有了 VMB auto drain 就 桶程序與 chemical flush 標準作業，可以提高線上驗機
可調整廠務端洗酸的進度，加速 real chemical flush 成功率，降低 tool 驗機時間。最後建立機台管控表與
動能，快速移除 particle，P6 執行養酸計畫加速後續 CST 大盤對焦，掌握工廠造機交付時程，滿足第一台裝
de-bubble，可以強化系統供酸品質，在後續 wet pa 機需求；中期到基礎設備進廠，依據機台進酸計畫，安
也有得到成效。 排 commission team 進行盤點與工具準備，初期大量
洗桶作業需要專人執行，才能滿足第一波送酸需求。

表 2：化學系統 commission & flush 管控表

Chemical commission & Flush
WCCS/Drain CCBTU/DHL CDU/ CMDU VMB VMB
Tool Tool Tool Tool
1ST
Install 要酸 需求時間 需求時間
Dept. P6 Chemical 樓層 Tool 變更 Plan Act. Plan Act. Plan Act. Plan Act. Plan Act.
day 時間 0527 0718
(CST)
(CST) (CST+30) 提供版本 提供版本
WET NaOH L10 scrubber #N/A #N/A 3/17 3/17 NA NA NA NA 3/13 3/15 3/15 3/15 3/17 3/17
WET H2O2 31% L20 QDCRS1 2/18 3/20 3/20 3/30 NA NA 2/24 2/22 3/10 3/10 3/28 3/28 3/29 3/29
WET H2SO4 96%_HT L20 QDCRS1 2/18 3/20 3/20 3/30 3/25 3/28 3/7 3/7 3/15 3/17 3/28 3/29 3/29 3/30
WET NH4OH 29% L20 QDCRS1 2/18 3/20 3/20 3/30 NA NA 2/25 2/25 3/15 3/17 3/28 3/29 3/29 3/30
WET IPA L20 QEPST1 2/18 3/20 4/10 4/10 3/24 3/31 3/11 3/11 3/23 3/23 3/28 4/1 4/7 4/8
WET HF25 % L20 QDCRS1 2/18 3/20 3/20 4/10 NA NA 3/15 3/14 3/22 3/23 3/30 4/1 4/8 4/6
WET H2SO4(LSC) LB1 scrubber #N/A #N/A 4/10 4/10 NA NA NA NA NA NA 4/26 4/26 4/10 4/26
CMP H2O2 31% HPM SDS #N/A #N/A 4/10 4/10 NA NA NA 2/22 NA 3/10 4/8 4/19 4/10 4/20
WET H2SO4(LSC) L20 scrubber #N/A #N/A 4/10 4/12 NA NA 4/4 3/24 4/6 3/24 4/8 3/28 4/10 4/12
WET NaOH L20 scrubber #N/A #N/A 4/12 4/12 4/4 4/5 NA 4/6 3/15 4/8 3/24 4/10 4/12
WET HF49% L20 QEBCL1 2/9 3/11 3/11 4/10 NA NA 3/11 3/14 3/21 3/23 3/30 4/2 4/10 4/6
LIT Developer-1 L20 QPD801-T 4/12 5/12 3/31 4/15 NA NA 4/9 3/11 4/11 4/8 4/13 4/18 4/15 4/19
LIT Thinner-1 L20 QPD801-T 4/12 5/12 3/31 4/15 4/7 4/7 4/5 4/7 4/7 4/12 4/13 4/12 4/15 4/15
WET HF 1% L20 8/31 9/30 4/15 4/15 4/9 NA 4/10 NA 4/11 4/13 4/13 4/13 4/15 4/15
WET NaOH LB1 scrubber #N/A #N/A 4/18 4/10 4/11 NA 4/12 3/15 4/14 4/14 4/16 4/26
WET AX30-B2 L20 QEPSLC 2/15 3/17 5/4 3/18 3/31 3/17 3/17 3/18 3/23 3/28 4/1 4/18 4/19
WET CX-100 28% L20 QCSCS3 3/11 4/10 4/20 4/12 NA 4/13 4/15 4/14 4/15 4/16 4/19 4/18 4/20
CMP H2O2 31% L30 QUCPE5-C 3/28 4/27 4/17 4/13 NA 4/14 2/22 4/15 3/10 4/17 4/21 4/19 5/3
CMP CX-100 2% L30 QUCPE5-C 3/28 4/27 4/17 4/13 NA 4/14 4/15 4/15 4/21 4/17 4/21 4/19 4/22
CMP IPA L30 QUCPE5-C 3/28 4/27 4/17 4/13 3/31 4/14 3/11 4/15 3/23 4/17 4/21 4/19 4/22
CMP KOH 5% (PM) L30 QUCPE5-C 3/28 4/27 4/17 4/13 NA 4/14 4/15 4/15 4/19 4/17 4/19 4/19 4/22
WET HF 1% LB1 QDSNB2 3/23 4/22 4/22 4/14 NA 4/15 NA 4/16 4/13 4/18 4/25 4/20 4/27
WET H2O2 31% L10 QDSNB2 3/23 4/22 4/22 4/14 NA 4/15 2/22 4/16 3/10 4/18 4/27 4/20 4/29
WET NH4OH 29% LB1 QDSNB2 3/23 4/22 4/22 4/14 4/15 2/25 4/16 3/17 4/18 4/25 4/20 4/29
WET HF49% LB1 QDSNB2 3/23 4/22 5/10 4/14 NA 4/15 3/14 4/16 3/23 4/18 4/25 4/20 4/27
WET H3PO4 86% LB1 QDSNB2 3/23 4/22 5/10 4/14 4/21 4/15 4/28 4/16 4/28 4/18 4/28 4/20 4/29
LIT TE512-1 L20 QPAT01-T 5/12 6/11 5/21 4/18 NA 4/19 5/9 4/20 5/13 4/22 5/18 4/24 5/27
LIT TE512-2 L20 QPAT01-T 5/12 6/11 5/21 4/18 NA 4/19 5/9 4/20 5/13 4/22 5/18 4/24 5/27

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