發表文章(1)

Vol.33 / 技術專文
Methodology for Exploring Air Pollution Control Measures in R&D Fab
探索研發廠空污防制對策之方法論
現今半導體製程發展一日千里,研發廠所面臨的空污排放問題,在處理防制上已是越來越困難了,其原因主要為研發廠空污問題具多變性及未知性,多未能有良好的空污處理經驗以茲依循,另因應研發製程的需求迫切,可擬定空污防制對策的時...

按讚

0

收藏

0
點閱 (75)