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半導體製程自N40/N28至N20/N16到即將邁入N10製程，對廠務系統產生新的衝擊與挑戰的是─化學原物料使用量及種類明顯上升，並且對原物料品質及檢測解析度也隨高階製程而提升。因此對廠務系統供應安全提升、排放污染降低，以及原物料品質檢測技術的提升等將是重要的課題。 本期的新工季刊針對這些課題，收納了十篇技術專文；其中《利用掃描式電子顯微鏡之超純水中的10奈米微粒子檢測技術》、《STI化學機械研磨液之微粒子數量控制》及《微振動即時監測系統之應用》三文，針對UPW及Slurry的品質檢測提升及對建築物微振動監測方法進行討論。《16奈米世代晶圓傳送盒吹淨微污染耦合冷凝取樣新式技術》、《光離子化偵測器在潔淨室內空氣分子污染物即時監控的應用》，則分別對晶圓傳送盒內及潔淨室的空氣檢測技術探討新的應用。而在安全環保課題有：《放流水再生利用─高級氧化法(AOP)的應用》、《防爆電氣規劃設計指引與未來挑戰》、《不斷電系統電容器老化在線監測及本質壽命評估》三文，是以創新的方式回收放流水、降低自來水用量及提升電氣用電安全。最後，《一個新穎的穩定濃度供氣技術：高活性劇毒氣體的應用》、《16/20奈米世代提高良率技術：XCDA新應用》二文，針對先進製程品質提升而提出的新混氣技術。 在新象新知部分，分享了《上回風潔淨循環系統的設計與應用》、《未來最具潛力的綠色能源：氫》及《薄膜過濾功能鑑別方法建立及無機薄膜於奈米顆粒去除之開發及其應用》，未來將評估應用在新廠設計及廠務系統上。 相信300mm FD組織成立後，更能提升同仁專業知識及鼓舞同仁對追求新知的熱忱，進而運用在未來廠務系統各領域，並透過這些專文分享給更多人。
陳鏘澤 Tony Chen | cccheno@tsmc.com
范恩祖 E.T. Fan | etfan@tsmc.com
許天賜 Alex Hsu | tthsu@tsmc.com
于 淳 Chwen Yu / 黃偉裕 Cronus Huang / 丁瑞華 Howard Ting / 鍾振武 Chenwu Chung
林素芬 Sophie Lin / 林豪逸 Hao-Yi Lin / 孫旭輝 H.H. Sun / 曾誌江 Frank Tseng / 張丁興 Deacon Chang / 趙樹華 Chris Chao / 許金源 C.Y. Hsu / 曹志明 James Tsao
洪湘寧 ViGi Hung | vigi_hung@tsmc.com
洪湘寧 ViGi Hung
