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首頁 / 分期閱讀 / Vol.51 淨零排放之挑戰與策略
2023.09
淨零排放之挑戰與策略
2023.09, Vol.51 / 技術專文
Nitrogen oxide reduction strategies in advanced fabs
先進廠區氮氧化物減量策略
文 | 羅英秦 | 新廠設計部 | 黃信瑋 | 台南廠務六部 |
半導體在製造晶圓的過程中，經常使用大量的「全氟烷化合物」(Perfluorinated compounds, PFCs)，防治設備處理這類型污染物通常是利用高溫裂解使其與氫與氧離子(H+、O...

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點閱 (34)
2023.09, Vol.51 / 技術專文
Plan the construction of air pollution prevention equipment in the limited space of the factory area
成廠區有限空間的空污防治設備建置對策
文 | 曾柏凱 | 新竹廠務二部 |
隨著環保意識抬頭及空污法規的演進，台積電呼應前述，提出ESG 2050年淨零排放目標，老舊成廠區在空污排放系統架構上有著難以改善的硬傷，除了防治設備老舊及備源機制不完全造成停機保養困難，更是有不同種類排氣風管串接混...

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點閱 (18)
2023.09, Vol.51 / 技術專文
Standardization of LSC DRE measurement method and strategy for De-N2O and NOx by Plasma-based LSC
LSC DRE檢測手法標準化及電漿式LSC De-N2O和NOx之策略
文 | 田麒鈺 | 新竹廠務五部 | 簡仲廷 | 新竹廠務五部 |
隨著日趨嚴謹之空污法規、新建廠之環評及公司ESG 2050年淨零排放之目標，FAC致力於發展各種污染物的減量技術。目前多數的CIT案皆是在LSC進行，也因此為了確保這些CIT能有效對空污減量，LSC DRE的檢測手...

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點閱 (26)
2023.09, Vol.51 / 技術專文
Improvement Strategy and Implementation Effect of Mixed Air Emission in RD Fab
RD廠區空污混排改善策略與執行成效
文 | 林裕愷 | 新竹廠務五部 | 黃友元 | 新竹廠務五部 |
RD Fab 先進製程研發致使製程不斷變化，2020 new chemical申請數較前幾年上升71%(全年120件)，依F12B實驗運轉經驗制訂從源頭、現址式洗滌塔(Local Scrubber)至中央處理設備(...

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點閱 (32)
2023.09, Vol.51 / 技術專文
VOC introduces new technology and moves towards net zero emission of air pollution
VOC導入新技術_邁向空污淨零排放
文 | 洪鈺葳 | 台中廠務一部 | 蔡景安 | 台中廠務一部 |
沸石轉輪濃縮系統作為台機廠區的主要揮發性有機物（VOCs）防制設備，其中其吸附能力為處理效率之關鍵，然而高沸點VOCs會因脫附溫度不足進而隨時間殘留於沸石轉輪中，大部分廠區透過提升脫附溫度來改善此一現象，卻忽略材料...

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點閱 (15)
2023.09, Vol.51 / 技術專文
Improving the Removal Efficiency of Particulate Matters
固態污染物_去除效率精進改善
文 | 吳俊賢 | 台中廠務三部 | 劉冠宏 | 十五B廠工安衛生部 |
F15B 空污排放標準除須符合半導體製造業相關法規外，亦須符合環境影響評估法及科管局之核定總量。因 2021年產能增量 30%，推估硫酸、氫氟酸、鹽酸排放總量會超過環評及科管局限值。本研究於不影響產能之條件下，將現...

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點閱 (11)
2023.09, Vol.51 / 技術專文
The Investigation and Application of Central Scrubber for Ammonia Emission Reduction
與時俱進的煙道革命_廠區洗滌塔氨氣排放削減研究與應用
文 | 吳瑞興 | 台南廠務一部 | 陳元昊 | 綠色製造部 | 邱冠瑋 | 台南廠務一部 | 陳睿森 | 台南廠務二部 |
隨著空氣污染防治議題蓬勃發展、環保法規日益嚴峻等等原因，空氣污染防治技術及煙道排放濃度減量逐漸成為關注焦點。TSMC F6及F14A共同遭遇的空污問題以酸性洗滌塔(SEX)酸鹼混排及去除效率不佳為主，為符合未來法規...

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點閱 (16)
2023.09, Vol.51 / 技術專文
Establishment of ammonium sulfate drying system and air pollution control technology
循環經濟_硫酸銨乾燥系統設立與空污防治技術
文 | 高舶格 | 台南廠務四部 |
隨著產能及研發規模持續擴充，台積公司採取「廢棄物產出最小化，資源循環使用最大化」的廢棄物管理方針。其中，針對廢硫酸及氨氮廢水，繼民國104年成功轉製為可委外再利用的硫酸銨廢液；台積公司再次領先業界、進一步導入「機械...

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點閱 (13)
2023.09, Vol.51 / 技術專文
Discussion of the ability of Salix to capture ammonium salt droplets and the outlook of VOCs flow at Polymer/PR Stripping process.
Salix應用於Polymer/PR Stripping之銨鹽類霧滴捕捉能力提升與VOCs流向展望
文 | 蔡宗偉 | 台南廠務八部 | 廖家偉 | 台南廠務八部 |
Polymer/PR Stripping 濕製程使用Wet Bench常見的高溫硫酸(SPM)與NH4OH，並同時利用IPA洗滌Wafer表面，故在製程尾氣處理具有酸性氣體與有機物(VOCs)...

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點閱 (22)
2023.09, Vol.51 / 技術專文
Burn Type Local Scrubber Decrease NOx Emission
現址式燃燒洗滌塔NOx減量
文 | 江昱慶 | 台南廠務八部 |
目前廠內現址式燃燒洗滌塔(Burn Type Local Scrubber)主要處理全氟化合物(PFC)，因其處理溫度較高，容易產生副產物-NOx，本文將以降低處理溫度及減少反應物兩方面探討，在符合廠內破壞去除效率...

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2023.09, Vol.51 / 技術專文
Development and research on monitoring technology of arsenic-containing waste gas in Nanjing Factory
南京廠含砷廢氣的監管技術的發展與研究
文 | 張波 | 南京廠務部 |
含砷廢氣作為劇毒性氣體，在大陸環保管制被從嚴要求，監管手段除了常規的煙囪出口量測，更趨向于源頭管控。本文因應法規要求，於前端現址式處理裝置出口設置單獨風管收集，並設立標準檢測口進行標準化採樣檢測，在廢氣進入主管段之...

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editor’s column 編者的話

馮智賢 Johnson Feng | 新竹廠務五部

台積公司身為全球最大的半導體技術與產能提供者，是台灣也是全球的標竿企業，面對全球氣候變，台積公司對外善盡企業的社會責任，對內帶領全體仁認真努力達成公司所訂定的ESG目標。 在空汙環保部份，我們的目標是2050年達到淨零碳排放，同時在製程排放的酸、鹼、有機、PM2.5、NOx等空氣汙染物減量作為，亦須符合環保署所訂的排放標準，並朝減量至背景值目標而努力。回顧過去幾年空汙減量成效，在廠務同仁的努力下，有不錯的成績:：以2015年為基準至2022年空汙減量已達57%，接近於2030年減量60%之目標。 2023年，除了環保法規修正外，ESG主席(董事長)更期許廠務能將2030空污減量目標上調至70%。因應新的挑戰，本期季刊收錄了空污減量相關精采文章共11篇：包括了3篇De-NOx相關文章，3篇PM2.5減量技術探討相關文章，及5篇既有廠區空污改善及減量技術探討關文章。 期許讀者在閱讀後，能有所收獲並應用於系統改善，為環境保護盡一份心力。

創辦人 Founder

莊子壽 Arthur Chuang | tschuang@tsmc.com

發行人 Publisher

陳鏘澤 Tony Chen

總編輯 Editor in Chief

范恩祖 E.T. Fan | etfan@tsmc.com

本期主編 Editor

馮智賢 Johnson Feng

美術主編 Art Director

孫揚淂 YangTe Sun | YTSUNL@tsmc.com

編輯顧問 Editorial Advisory

陳鏘澤 Tony Chen / 薛仁猷 J.Y. Hsueh / 洪永迪 Eddy Hung / 陳勇龍 YungLong Chen / 丁瑞華 Howard Ting / 江世雄 S.H. Chiang / 許天賜 Alex Hsu

編輯委員 Editorial Board Members

黃柏勛 Po-Hsuan Huang / 葉峮甫 Chun-Fu Yeh / 莊哲嘉 Che-Chia Chuang / 王俊智 Derrick Wang / 張富鈞 Fu-Chun Chang / 林彥佐 Y.T. Lin / 邱冠瑋 G.W. Chiu / 范銘哲 M.C. Fan / 廖家偉 C.W. Liao / 林家瑋 C.W. Lin / 干成果 C.G. Gan