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首頁 / 分期閱讀 / Vol.44 水氣化系統運轉-風險改善與品質提升
2021.12
水氣化系統運轉-風險改善與品質提升
2021.12, Vol.44 / 技術專文
Prevention of chemical filter contamination
化學系統濾心污染防治
文 | 羅立偉 | 日本新廠專案 | 鍾易龍 | 新廠設計部 | 梁高維 | 台南廠務七部 |
隨先進製程技術不斷推進，化學供應品質也面臨挑戰，偵測品質標準中的金屬含量及含不純物成為製程關鍵。既往影響產線供應品質汙染源，以原物料及耗材供應商製造與包裝品質異常之案例為甚，又以定時保養更換系統耗材或配件影響風險較...

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點閱 (70)
2021.12, Vol.44 / 技術專文
The defense and strategy against small molecule TOC in UPW system
純水小分子TOC的防禦與對策
文 | 楊昀瑍 | 台南廠務九部 | 傅正貴 | 台南廠務九部 |
隨著半導體製程的精進(N5→N3製程)，使用的超純水越趨純淨，其中總有機碳(TOC)過高將導致晶圓表面氧化及結晶缺陷，導致蝕刻不均、清洗效率不佳。各廠廠務超純水系統對TOC素有極高的去除效率(POU出口已...

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點閱 (44)
2021.12, Vol.44 / 技術專文
An Annoying Operation Problem : Regulator Clog in B2H6 Gas Cabinet -Root Cause Investigation and Possible Solution Evaluation
惱人的運轉問題 : B2H6氣櫃調壓閥阻塞-原因探討與解決方法評估
文 | 劉俊男 | 林郁賢 | 蔣竣光 | 林安助 | 台中廠務四部 |
5% B2H6/Ar氣櫃調壓閥受到B2H6粉末狀副產物阻塞，為一項常見且擾人的運轉問題。經文獻探與過去的經驗顯示副產物粉末可能來自於...

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點閱 (36)
2021.12, Vol.44 / 技術專文
Decreasing COD concentration of effluent by increasing efficiency of Bio-System
實現綠色製造-增進生物系統處理效率達到放流COD減量
文 | 林佑勳 | 台中廠務四部 |
隨著半導體製程的精進，晶圓製程用於防倒線及除水痕異丙醇(IPA)的使用量逐漸上升，N7世代IPA使用量已為N16世代之6倍，在已可觸及的N2世代，IPA用量更可達N16之16倍。對於放流水中化學需氧量濃度，如何能低...

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點閱 (43)
2021.12, Vol.44 / 技術專文
Application of valve abnormally detected in gas cabinet
氣櫃閥件異常偵測應用
文 | 陳彥儒 | 孫愛迪 | 謝銘忠 | 台中廠務二部 |
特殊氣體供應系統(Special gas supply system, SGS)的穩定供應源自於氣櫃(Gas cabinet, GC)的落實管理，想要有效的管理氣櫃就必須了解氣櫃的操作流程及氣櫃PLC的控制邏輯。亞...

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點閱 (42)
2021.12, Vol.44 / 技術專文
Painless upgrade method and practice of old technology plant's gas/ chemical supply system
舊科技廠房氣化供應系統無痛升級方法與實務
文 | 劉桐村 | 台南廠務一部 | 廖俊凱 | 台南廠務一部 |
本文主要說明高科技廠房的廠務設備會隨時間不斷的演化和進步，並伴隨著長時間的運轉經驗而提出更好的系統改善方案，老舊的科技廠房將面臨兩大挑戰。
第一 : 系統硬體部分因逐年老化需汰舊換新並藉由不斷完善改善...

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點閱 (49)
2021.12, Vol.44 / 技術專文
Optimization Of Waste H2SO4 Decrease H2O2 System
廢硫酸去除雙氧水系統最佳化探討
文 | 曾治寰 | 郭中閔 | 劉柏青 | 台南廠務三部 |
本文以「最佳化探討」(Optimization)廢硫酸去除雙氧水系統，針對廢硫酸(W-H2SO4)去除雙氧水(H2O2)回收系...

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點閱 (116)
2021.12, Vol.44 / 技術專文
Static electricity prevention is done well, no worries at work!
靜電防治做得好，工作沒煩惱
文 | 林佳瑩 | 台南廠務五部 |
半導體製程中高分子有機溶劑為常見使用之化學品，因其低導電率特性，廠務端供應機台容易經高分子有機溶劑流動摩擦發生靜電擊穿現象增加供應上之風險。在不影響廠務端穩定運轉卻能達到靜電防治效果狀況下建議供應機台使用抗靜電材料...

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點閱 (78)
2021.12, Vol.44 / 技術專文
It's Good Time to Save Water! Automation of Cooling Tower Level Control
節水好時機-Cooling Tower液位控制自動化
文 | 江典剛 | 台南廠務處 | 夏瑋念 | 台南廠務處 | 黃冠諭 | 亞太廠務處 |
冷卻水塔(Cooling Tower)一直是各廠回收水(RCW)使用量最大的單元，其使用量(即蒸發量)與當下環境的溫度、濕度皆有關，而環境溫濕度又與季節(長期)、日夜(每天)有關，以現況Cooling tower固...

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點閱 (56)
2021.12, Vol.44 / 技術專文
Nondestructive-Inspection by Using Electromagnetic Acoustic Transducer for pipe inspection
非破壞性檢測-應用電磁超音波探傷儀檢測管路腐蝕狀況
文 | 吳以壯 | 新竹廠務一部 |
隨著廠區翻新工程如火如荼進行，其中針對金屬管路以除鏽並重新油漆的方式，讓原本望過去有著鏽斑的管路煥然一新。然而實際施作時卻面臨了另一個問題，將管路表面生鏽去除、打磨後開始出現滲漏的狀況，因管路內部、焊道已有砂孔，或...

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2021.12, Vol.44 / 技術專文
Enhancement of Parts Replacement of Corrosive Gas-Control Ambient Humidity to Solve Corrosion Issue
腐蝕性特氣元件PM精進-控制環境濕度，解決元件更換腐蝕問題
文 | 陳建佑 | 新竹廠務一部 |
腐蝕性特殊氣體(特氣)為半導體產業中常見的化學品，其在更換特氣元件的過程易與空氣中水氣產生酸性的腐蝕化合物，造成人體或設備元件有接觸腐蝕及不純物汙染的風險。本研究以更換氯氣(Cl2)氣體分配箱...

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2021.12, Vol.44 / 技術專文
Analysis and Prevention of Tank Leakage of Water Treatment System
水處理系統桶槽洩漏之分析與防治
文 | 莊仲霆 | 台南廠務三部 | 張峻嘉 | 台南廠務三部 |
不論化學品的儲存桶槽或是運轉系統桶槽，一旦發生損壞則會影響整個系統的操作更可能影響人身安全。F14P12遭遇多次桶槽洩漏事件，為了瞭解其真正洩漏原因，進而收集F14A(F6、F14P12、F14P34)廠區內桶槽出...

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editor’s column 編者的話

林文保 | 廠務三部

廠務系統在半導體廠扮演著穩定基石的角色，提供著Fab機台最基礎的物料，就如同人體需要著陽光、空氣，水，是工廠能順利運轉的基石。其中水氣化系統跟Wafer的品質更是有著密不可分的關係。隨著系統的開始老舊以及各式問題的出現，工程師發揮著各式想法與創意不斷的解決問題以及不斷降低系統運轉的風險，持續朝著「Fab最穩定基石」的這個目標在前進。 廠務系統不同於Fab機台有著Down time、PM time，廠務系統所追求的使命是系統當機時供應不能停、系統PM時供應不能停。在這個使命的前提下，每當系統有問題、有風險，工程師總是能發揮精益求精的精神，不斷改善著系統以及降低運轉風險。另外品質是「生產」永遠追求的目標，在這點上廠務所扮演的絕不僅僅是維持穩定的品質而已，如何降低不純物、降低particle? 如何讓系統眼睛更明亮，更能抓到細小的品質問題，這同樣是廠務日常運轉的方向。達到一起與工廠共同追求著生產更順利、產能多更多、品質要提升的公司目標。 本期季刊著重在風險的改善與品質的提升，網羅了北、中、南共12位工程師的專業分享。每件都是日常運轉所得來，同時也是每日運轉所需要，是系統風險的改善，更是系統永續運轉所需的經驗累積。希望藉著這些良好的措施與探討能夠激發舊的系統往更加穩定、更有效率的方向前進，並讓下一個世代的系統站在這些經驗上繼續前進。

創辦人 Founder

莊子壽 Arthur Chuang | tschuang@tsmc.com

發行人 Publisher

陳鏘澤 Tony Chen

總編輯 Editor in Chief

范恩祖 E.T. Fan | etfan@tsmc.com

本期主編 Editor

林文保 Kenneth Lin

美術主編 Art Director

孫揚淂 YangTe Sun | YTSUNL@tsmc.com

編輯顧問 Editorial Advisory

陳鏘澤 Tony Chen / 薛仁猷 J.Y. Hsueh / 洪永迪 Eddy Hung / 陳勇龍 YungLong Chen / 丁瑞華 Howard Ting / 江世雄 S.H. Chiang / 

編輯委員Editorial Board Members

王若杰 Rouh-Jier Wang / 李梓暘 Zi-Yang Li / 邱卓皓 Cho-Hao Chiu / 張朝鈞 Chao-Chun Chang / 陳冠廷 Guan-Ting Chen / 蔡耀昌 Y.C. Tsai / 劉柏青 P.C. Liu / 趙培辰 P.C. Chao / 曾杰玉 C.Y. Tseng / 陳建助 C.C. Chen / 黃文聖 Eric Huang / 張峻嘉 Barkley Chang /