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0在半導體製程即將邁入10奈米及7奈米製程之同時,廠務系統不論在微觀的製程環境與巨觀的資源供應,或是對於周遭的自然環境受體,都會產生新的衝擊與挑戰。這些衝擊與挑戰包括了:超純淨原物料(水、氣體、化學品)的製造、供應與輸配,供電系統品質與能源節約,以及製程生產條件的控制(生產環境之潔淨度及穩定性控制、電磁波防護、廠房微震動、廠務系統效率優化,以及省水、省能、降低污染排放)等課題。本期新工季刊即針對這些課題,收錄了八篇技術專文;其中《以計算流體力學模擬煙囪對外氣空調相近氣品質的影響》及《潔淨室環境濕度對於奈米粒子汙染生成的影響》二文,討論潔淨室的環境控制及可能對製程造成的潛在風險的因子進行討論。《膜版式外氣水洗加濕器》、《溶液除濕空調與節能應用》、《電力負載電紋特徵辨識技術應用探討》及《高效率電腦機房節能手法探討》,則分別對冷凍空調系統、電力監控及電腦機房設計提供效率優化及能源節約的選擇。《低蒸氣壓氣體之壓力恆定迴授控制應用》一文,以創新的方式,提升低蒸氣壓氣體供應之穩定性。《創新氨氮廢水資源化》則提供了大量使用氨水的半導體廠一個降低環境衝擊又可將氨氮廢水轉為再利用資源的方向。新象新知部分,分享了以觸媒法除去超純水製造過程中之副產物-雙氧水、智慧型火災偵測系統,以及最近非常熱門的話題-物聯網與3D列印技術,未來也都可以應用在建廠及廠務系統上。 在有限的篇幅中,雖然無法涵蓋未來廠務系統各領域的趨勢及應用,但期能以這些專文開啟讀者一個創新的思維,並引起更深入探討。
莊子壽 Arthur Chuang | tschuang@tsmc.com
黃昭文 Jau Wen Huang | jwhuanga@tsmc.com
丁瑞華 Howard Ting | jhting@tsmc.com
洪永迪 Eddy Hung / 黃偉裕 Cronus Huang / 范恩祖 E.T. Fan / 鍾振武 Chenwu Chung / 于 淳 Chwen Yu
林素芬 Sophie Lin / 呂孟倉 Meng-Chang Lu / 曹志明 James Tsao / 林豪逸 Hao-Yi Lin / 孫旭輝 H.H. Sun / 洪文當 W.D. Hung
洪湘寧 ViGi Hung | vigi_hung@tsmc.com
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