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2020.6
The quality defense of process material improve
on facility supplying system and circular economy
of resource recycling technologies pratctice
氣化系統供應品質提昇與
水系統循環經濟資源再生技術實務
Vol.36 / 技術專文
Application of Supply Quality Check for Process Gas Materials - A Case of C3H6
製程氣體原物料供應品質監測實務應用─以丙烯為例
檢視製程氣體供應系統可發現,特殊氣體原物料品質監測屬於品質把關較不足的一塊,目前運轉供應上僅能依靠廠商提供原物料檢驗報告及既有供應系統的鋼瓶壓力來檢視供應品質,若能導入高精度且能於供應鋼瓶上線前防守,定能提高整體供應系統...

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點閱 (178)
Vol.36 / 技術專文
A Study of Slurry Supply Quality during Stage Transfer from Advanced Process to Mass Production : A Case of WMG Slurry
先進製程轉量產之研磨液供應品質探討─以鎢金屬閘極製程研磨液為例
半導體製程中,積體電路的線路由微影顯像及光阻蝕刻的方式製造,線路的厚度則是藉由化學機械研磨(Chemical- Mechanical Planarization, CMP)的平坦化製程所控制。隨著製程線寬的微縮,CMP製...

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點閱 (166)
Vol.36 / 技術專文
Investigation on a Novel Slurry Blending Technology for Advanced Semiconductor
先進半導體製程研磨液之新混酸技術探討
化學機械研磨(CMP)製程是半導體製程中達到全面平坦化(global planarization)的主要關鍵技術。影響化學機械平坦化的因子包含可調節、可稀釋的研磨液(slurry),以及相匹配的研磨墊(pad),轉速,下...

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點閱 (59)
Vol.36 / 技術專文
Method and Practice of Chemical Dispense Unit Control System Upgrade without Supply Interruption
化學供應系統之控制單元執行不中斷供應的升級方法與實務
隨著半導體製程由N4X演變至N3,廠務化學品供應系統(CDU)也須同步進化,但在2008年建立之舊式化學品供應系統設計已不符現況,且系統供應商部門解散,造成廠務進化的腳步停滯,必須研擬出新的方法突破現況,以符合N3之先進...

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點閱 (44)
Vol.36 / 技術專文
Treatment of Advanced Semiconductor Cobalt Sulfate Wastewater
先進半導體硫酸鈷廢水特性與處理技術探討
由於半導體先進製程演進,化學品使用成分複雜,產生製程廢水處理亦趨困難,其中,硫酸鈷廢水主要來源為ECP(Co)與CMP(Co)製程所產生,且先進半導體鈷金屬放流濃度要求為ng/L(ppb)等級,此為先進半導體製程首次面對...

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點閱 (66)
Vol.36 / 技術專文
Pratices of Cobalt Sulfate Wastewater Recycling as a Realization of Circular Economy
論含硫酸鈷廢水循環經濟再利用之實務處理方法
台積竹科十二吋廠區生產先進製程晶圓,其機台將排放含鈷廢水,排放規劃則依據排水含鈷濃度從機台進行分流,低濃度含鈷廢水(<100mg/L)導入鈷樹脂提濃系統處理,高濃度廢液(2,300mg/L)委外清運,隨著先進製程產...

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點閱 (75)
Vol.36 / 技術專文
New Technology of NH4N High Removal Efficiency and Recycling in Caustic Wastewater-Stripper
鹼性廢水中氨氮的高效脫除與資源再利用新技術
對於半導體製造業大廠,廢水有效處理達到排放要求,高濃度的氨氮廢水處理格外重要,尤其針對南京廠,根據最新出臺的《江蘇省半導體行業排放標準》,政府規定的硫酸鹽類濃度小於600ppm,且氨氮外排標準已由45ppm 調整至20p...

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點閱 (71)
Vol.36 / 技術專文
High Concentration H2O2 Wastewater Treatment Technology of Semiconductor Assembly
先進封裝廠含高濃度雙氧水廢液處理技術與實務探討
晶圓半導體製造工廠大部分高濃度雙氧水廢液排放至廠務廢水系統進行調勻處理,先進封裝廠區廢水量較晶圓廠區小,若直接排放至廢水系統將造成放流水超標風險。因此需委外處理高濃度雙氧水廢液,對環境與公司營運成本皆造成負面影響。本文藉...

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點閱 (59)
Vol.36 / 技術專文
Crystallization Technology of Semiconductor Waste Sulfuric Acid Recovery to Industrial Grade Ammonium Sulfate Liquid
半導體廢硫酸回收轉製成工業級硫酸銨乾燥技術探討
為了達成「廢棄物產出最小化與資源回收最大化」的循環經濟理念,台積公司持續推動源頭減量及廠內廢棄物回收再利用。 本次研究導入普遍用於化工業的「結晶乾燥系統」,對硫酸銨廢液進行蒸發濃縮產出工業級硫酸銨晶體,不但節省硫酸銨委外...

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點閱 (85)
Vol.36 / 技術專文
Kitchen Waste Recovery Technology
餐廳廚餘資源化處理技術
因非洲豬瘟疫情延燒,國內以廚餘作為養豬飼料的業者面臨更嚴苛的法令管制,因此部分廚餘轉為用堆肥或焚化的方式處理,除增加處理費用也影響了環境生態,且現階段台灣的堆肥場及焚化爐剩餘可處理容積已趨近飽和。為處理台積電每月達 15...

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點閱 (71)
Vol.36 / 技術專文
Discussion and Practice of COD Reduction in Wastewater
外排廢水化學需氧量減量方法探討與實務
隨著製程技術持續推進,許多新的製程機台以及化學品首次導入,我們發現新建廠區有放流水之 COD 值偏高問題。為解決這個問題,我們一方面進行廠內 COD 污染源之追查,透過源頭分析及查找,發現 IPA 為廢水中 COD 之貢...

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點閱 (59)
Vol.36 / 技術專文
Founding and Application of Advanced Chemical Supply System Data
先進化學供應系統基礎數據建立與應用探討
科技不斷進步,資訊串流、大數據分析等應用已成為先進半導體廠重要技術指標之一,雖然廠務供應系統已有完整網域監控架構,但運轉資訊往往因為設備系統商不同,造成監控網域各自平行運作,本研究以OPC server整合多家通訊協定,...

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點閱 (40)
Vol.36 / 新象新知
New Generation Particle Measurement Technique for Liquid Phase Chemical
新世代液相化學品微粒量測技術
本文介紹一套由公司和工研院共同合作開發液相化學品微粒量測系統,又稱超級微粒量測儀(SuperSizer, SS)。有別於一般市面上常見的液體微粒計術器(LPC)僅能測至20 nm的微粒,且僅能提供4至5道粒徑區間的測值,...

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點閱 (58)
主編於中科十五廠 六期化學監控系統 攝影/ 洪湘寧

editor’s column 編者的話

曾恒毅 | 竹科廠務五部

2017年起,國際半導體技術發展路線圖(International Technology Roadmap for Semiconductors, ITRS)資料不再更新。繼任者是國際設備和系統技術藍圖(International Roadmap for Devices and Systems, IRDS),更新各種系統的新技術。目前最新 2019年 IRDS中第三部分良率精進的章節,談到了許多廠務系統品質相關的議題與未來的發展方向,基本上和我們現行的方向是一致的。在先進製程中,我們對於供應品質的要求甚至還高於IRDS的標準。IRDS讓大家與時俱進,提供了最新技術參考資料,並讓同仁瞭解廠務系統品質的重要性。 在2019年,原物料中不穩定的微粒不純物是影響先進製程良率的重要因子之一。然而目前業界廣泛使用的液體微粒計數器(Liquid Particle Counter, LPC)僅可測得20奈米的微粒,和目前最先進的3奈米製程仍有段不小的差距。新象新知中提到了一套結合微分電移動度分析儀(Differential Mobility Analyzer, DMA)與核凝微粒計數器(Condensation Particle Counter, CPC)的量測系統,具備有量測到3奈米微粒的能力,但如何克服量測標的濃度過低,或是化學品在霧化成氣膠(Aerosol)後仍有大量未揮發的液滴造成測值干擾的問題,仍是該項技術未來的發展重點。唯有持續發展並改進這項技術,未來才能於第一時間將含有微粒汙染物的異常原物料攔截,進而提升製程良率。 另外我們在循環經濟的發展也有所突破,我們發展出將大量半導體廢硫酸回收轉製成為工業級硫酸銨的乾燥技術。 30% 硫酸銨液體經由蒸發、濃縮再結晶,製作成為再生資源產品「工業級硫酸銨晶體」進行銷售,不僅可節省硫酸銨的清運量,並將廢棄物資源循環到其他業界,作為皮革、染整原料使用,廢棄物也可變成黃金。如何透過創新的發展模式,讓公司的綠色製造及綠色供應鏈全速發展,是未來非常重要的課題。 感謝各廠區部門主管熱心推薦重要的技術專文,參與本期期刊的發表。每位作者很用心的將這些議題的學習經驗與案例,從鉅細靡遺的原始數據,經過多次的文章討論與修改,將重點中的重點節錄清楚。除了和大家分享氣化系統供應品質提升的方法與實務,也站在循環經濟的角度,針對因先進製程所產生出更多種類與量體的廢棄物,提出了更多更有效的資源再生技術。 希望本期期刊的技術專文發表,能帶給各運轉單位實質的幫助與激勵的動能,並推使廠務團隊一起持續朝向高品質提供者、資源再生專家及系統穩定運轉方向的目標邁進。

發行人 Publisher

莊子壽 Arthur Chuang | tschuang@tsmc.com

總編輯 Editor in Chief

范恩祖 E.T. Fan | etfan@tsmc.com

主編 Editor

曾恒毅 Heng-Yi Tseng | hytzeng@tsmc.com

美術主編 Art Director

洪湘寧 Shiny Hung vigi_hung@tsmc.com

編輯委員 Editorial Board Members

王俊元 Jimmy Wang / 趙樹華 Chris Chao / 丁瑞華 Howard Ting / 李明利 M.L. Lee / 尤國男 G.N.You / 張清淦 C.K. Chang / 林文保 Kenneth Lin / 彭榮晃 L.H. Peng / 于 淳 Chwen Yu / 李靜怡 Marie Lee

編輯顧問 Editorial Advisory

陳鏘澤 Tony Chen / 薛仁猷 J.Y. Hsueh / 陳勇龍 YungLong Chen / 江世雄 S.H. Chiang / 洪永迪 Eddy Hung