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首頁 / 分期閱讀 / Vol.10 New Fab Design
2013.6
The mission of Fab design is structure effective facility system to fulfill Fab operation purposes under certain conatrains such as cost, schedule, reliability and maintenance concerns.
金筆獎入圍
2013.6, Vol.10 / 技術專文
Real Time Monitoring System for Low Frequency Magnetic Field in Semiconductor Fabs
低頻磁場即時監測系統於半導體廠房的應用
文 | 于淳 | 廠務技術發展專案 |
半導體廠房內到處都充斥著電磁波，為使機台彼此不受電磁波干擾而能正常作業，就必須作好半導體廠房的電磁波管理，第一步先要建立即時電磁波監測系統，本文探討即時電磁波監測系統所需的感測器要求、即時電磁波監測系統建立的方式，...

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點閱 (69)
2013.6, Vol.10 / 技術專文
Signal Processing and Spectral Analysis
訊號處理及頻譜分析
文 | 陳錦村 | 廠務技術發展專案 |
The signal processing is the fundamental to deal with digital signal data, such as vibration or earthquake ...

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點閱 (36)
2013.6, Vol.10 / 技術專文
Nanoparticle Contaminants Measuring and Source Tracking Syst
奈米粒子捕捉技術介紹
文 | 郭啟文 | 廠務技術發展專案 |
A new nanoparticle detecting and tracking system has been proposed to measure nanoparticle contamination an...

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點閱 (55)
2013.6, Vol.10 / 技術專文
Performance-based Design of Smoke Removal in Cleanroom
無塵室性能式煙控設計
文 | 邱民昇 | 新廠設計部 |
無塵室內性能式煙控設計，係整合環境特性、氣流控制系統與排煙系統而成的煙控系統；以高程差環境建構出蓄煙井，調節氣流建構壓差環境，再配合終端之排煙設備將煙塵排至室外，達到煙控目的。性能式煙控經過驗證後，即可突破消防規章...

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點閱 (50)
2013.6, Vol.10 / 技術專文
On-Site Fluorine Generator - a Low-cost and High-productivity Green Approach
低成本與高生產力的綠色製程 - 現場製氟技術
文 | 黃介然 | 新廠設計部 |
氟氣(F2) 已在半導體工業中廣泛使用多年，主要應用於製程設備反應腔室(Chamber) 的清潔，由於氟自由基(Radical) 可與沉積的薄膜(Si, SiO2, Si...

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點閱 (30)
2013.6, Vol.10 / 技術專文
UPW Future Trend: Functional Water
機能水的應用
文 | 王義信 | 新廠設計部 | 山下幸福 | 奧璐佳瑙科技股份有限公司 |
本文主要介紹目前及未來機台超純水可能使用的走向，機能水的應用及原理，機能水可增加去除效率及減少化學品的耗量，如O3 +DIW，去除有機物(取代SPM功能)，CO2+DIW，防止帶電，增加微粒子去除效率&hellip...

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點閱 (44)
2013.6, Vol.10 / 技術專文
Explosion Simulation of Hydrogen Released from the Massive EPI Processes
大量EPI製程氫氣洩漏爆炸後果模擬分析
文 | 洪文當 | 工程品質暨安全管理部 | 黃建彰 | 財團法人安全衛生技術中心 |
EPI 製程使用大量氫氣已經在國內外造成一些事故，因為製程需求，新建廠需規劃大量EPI機台，新工處與財團法人安全衛生技術中心共同合作，希望針對製程設備以定性及定量方式進行風險評估。此外，以CFD電腦模擬方式定性模擬...

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點閱 (62)
2013.6, Vol.10 / 技術專文
Advanced Chemical and Slurry Supply with Particle Control
先進半導體廠化學品供應系統及微粒子控制
文 | 徐銘宗 | 新廠設計部 | 江宜蓁 | 十二B 廠廠務工程專案 | 謝欣容 | 十二B 廠廠務工程專案 |
本文將討論半導體廠化學品及化學研磨液供應系統微粒子控制的設計和改進的方向以及未來的晶圓廠化學品及化學研磨液供應系統新挑戰。其次，研究化學研磨液顆粒大小和穩定性，以管理研磨液使用時間、減少缺陷，特別是大顆粒粒子（LP...

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點閱 (62)
2013.6, Vol.10 / 新象新知
Graphene: the future Material for Semiconductor
未來的半導體材料：石墨烯
文 | 于淳 | 廠務技術發展專案 |
當今和未來半導體廠是以矽晶圓來生產行動通訊和智慧手機所需的元件為主，但隨著產品對傳輸速度和省能要求日益提高，根據目前的研究擁有極佳的導電導熱和電子遷移率的碳基二維石墨烯材料，可望在未來半導體製程中取代以矽基為主的半...

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點閱 (29)
2013.6, Vol.10 / 新象新知
Biomimetics─ Self-cleaning of AAS Fan
仿生科技 - 製程排氣處理風扇自潔技術
文 | 陳政安 | 新廠設計部 | 錢立行 | 十二廠廠務一部 |
仿生學，一種透過觀察、研究、學習之後，將自然界中生物的各種特殊本領，包括生物本身的特殊結構、原理、行為，甚至是各種器官功能、體內的物理和化學過程、能量的供給、記憶與傳遞等應用於人類的科學技術，提供新的設計概念的技術...

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點閱 (49)
2013.6, Vol.10 / 新象新知
DCS Electronic Marshalling for Semiconductor
DCS設計躍進 - 電子錯線
文 | 李文振 | 新廠設計部 |
程控系統近來為了滿足客戶的需求，發展出一種創新的電子佈線技術(Electronic Marshalling Technology)，此技術簡化了現場設備與自動化控制系統間繁瑣的工程規劃工作、增加系統變更及擴充彈性並...

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點閱 (23)

editor’s column 編者的話

黃昭文 JAU WEN HUANG | 新廠設計部

接續上一期廠房規劃，新工季刊第10期切入廠房設計，探討面對16奈米、10奈米以下先進製程的嚴峻跳戰。 本期技術專文收錄八篇精選文章。首先，我們從充斥在機台間的電磁波下手，採用低頻磁場即時監測感測器檢視電子顯微鏡的環境磁場，避免機台電磁干擾因素，達成高良率的生產效能；同步刊載訊息處理暨光譜分析技術文章以及奈米微粒污染物量測暨污染源追蹤系統，這套系統有著令人振奮的高準確控污手法，運用無線點對點的傳輸方式可適用在先進半導體廠房。另外，因應愈趨複雜的AMHS系統導入有別於傳統的性能式煙控設計；模擬EPI製程機台使用大量氫氣聚集模式提升防護措施；現地製氟技術的優勢、化學研磨液供應系統的演進及機能水的應用也將在本期中詳加說明。 在新象新知中，除特別為讀者介紹未來半導體材料－擁有極佳導電導熱和電子遷移率的石墨烯外，還有仿生科技應用在排氣系統自潔技術及控制系統設計躍進等三篇文章。 新廠廠務設計隨著製程精進，需要不間斷的嘗試創新激盪出最佳設計方向，為未來的廠務系統提供高效能及高穩定的運轉基石。

發行人 Publisher

莊子壽 Arthur Chuang | tschuang@tsmc.com

總編輯 Editor in Chief

范恩祖 E.T. Fan | etfan@tsmc.com

主編 Managing Advisory

黃昭文Jau Wen Huang | jwhuanga@tsmc.com

編輯顧問 Editorial Advisory

鍾振武Chenwu Chung / 黃偉裕Cronus Huang / 丁瑞華 Howard Ting

編輯委員 Editorial Board Members

林素芬 Sophie Lin / 賈芸如 Ruby Chia / 蘇鈺洲 Y.C. Su / 于 淳 Chwen Yu / 郭安婷 Lucinda Kuo / 林永祥 Martin Lin

美術主編 Art Director

洪湘寧 ViGi Hung | vigi_hung@tsmc.com

攝影 Photographic Editor

洪湘寧 ViGi Hung