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這幾年公司在20/16奈米快速放量推進，乃至目前的10/7奈米，及未來的5奈米製程發展，皆領先業界。而量能與製程的推進，廠務也扮演重要的角色，特別是與晶片直接接觸的氣體、化學、水三大項。本期廠務季刊，聚焦氣化領域在因應多變的製程需求中的創新技術與寶貴經驗，以及水處理系統在節水、節能、減廢等環保議題的持續努力。 氣化領域共五篇，包含〈研磨液過濾系統新革命〉，首創掃流式過濾改善研磨液品質、降低晶圓刮傷缺陷，以及面對問題、找出原因、成功提昇系統穩定性的〈醋酸丁酯負顯影劑廠務供酸系統大解密〉及〈研磨液之雙氧水即時量測技術進化〉。〈矽甲烷供應系統安全防禦之實務探討〉則是整合業界技術研究與實際運轉經驗，對矽甲烷之安全防禦機制做完整的探討； 最後〈惰性製程氣體回收技術〉是在兼顧永續利用及運轉安全下，回收高單價的惰性氣體製程廢氣，達到降低成本且兼顧環保目標，目前已成功運用於氖氣回收上。 水處理系統共七篇，內容呼應剛落幕的Semicon Taiwan 2016「高科技廠房設施國際論壇」，著重節能、減廢與環保等攸關國家及產業永續發展的重要議題。〈廢水處理廢水！〉及〈含臭氧酸鹼廢水回收至純水之設計與運轉分享〉是善用廢水特性、邁向系統最佳化整合的案例，其中應用的「高級氧化程序」 也是目前台積再生水研發的主要方法。努力提升水回收率之時，廢水處理之藥劑量也隨之增加，〈生態保育水活化─殺菌技術大進化〉發展脈衝電漿殺菌技術，以物理性殺菌取代化學性投藥，減少放流水之生物急毒性。此外，廢棄物減量為公司綠色製造主軸之一，〈節能減廢新藍海─機械式蒸氣再壓縮系統原理概述及應用〉是硫酸銨減量的新方向；〈液中求銅〉則是硫酸銅廢液有效資源化的成功案例；〈新型紫外線裝置對超純水總有機碳去除效率探討及效益分析〉是另一節能的案例；〈工業再生水研發〉是繼先前Vol.18季刊發表的實驗室測試，進階到模廠連續運轉測試，這是公司水資源回收的長遠目標。 在新象新知部份，本期分享〈壓力驅動的網管流模擬〉，不著墨於模式的推演，但求觀念上的說明，希望大家有興趣。
莊子壽 Arthur Chuang | tschuang@tsmc.com
范恩祖 E.T. Fan | etfan@tsmc.com
李明利 M.L. Lee | mlleea@tsmc.com
薛仁猷 J.Y. Hsueh / 陳鏘澤 Tony Chen / 陳勇龍 YungLong Chen / 江世雄 S.H. Chiang / 洪永迪 Eddy Hung
李靜怡 Marie Lee / 林素芬 Sophie Lin / 呂孟倉 Meng-Chang Lu / 彭榮晃 L.H. Peng / 曾恒毅 Heng-Yi Tseng / 尤國男 G.N.You / 洪男雄 N.H. Hung / 王若杰 Rouh-Jier Wang / 吳明哲 Mike Wu / 王俊元 Jimmy Wang
洪湘寧 ViGi Hung | vigi_hung@tsmc.com