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回首台積公司成立以來，自1987年由工研院移轉3.5/2.0微米製程技術，為客戶製造3.0微米產品。1988年，台積公司成功開發1.5微米製程技術，並陸續成功開發1.2微米、1.0微米、0.8微米、0.6微米、0.5微米、0.3微米及0.25微米製程技術。在1999年領先全球，推出第一個0.18微米低耗電製程技術。之後，從0.13微米、90奈米、65奈米、40奈米、28奈米、20奈米、16/12奈米， 10/7奈米，一直到今日最先進的5奈米3奈米製程技術，台積公司都持續領先，持續創造奇蹟，台積公司讓摩爾定律 (Moore's law)的延續仍未停歇。 隨著先進製程的發展，半導體廠房的規模及複雜度也隨之日益增加。其中肩負生產穩定基礎的廠務管理角色也越顯其重要性。廠務團隊隨著產能持續增加，組織規模變得越來越大，也承擔更多的責任及需要更多運轉及管理的技能，來實現我們的願景「 成為半導體業界；提供可靠和創新營運環境的專業廠務管理團隊。」及達成我們的使命 「規劃和提供永續的卓越製造服務，位公司提供穩定和維護良好的營運環境。」 這期季刊的內容收羅了來自運轉、新建工程、廠務學院、自動化專案及環境實驗室各資深管理者他們對於如何提升廠務管理上廣度及深度的看法及建議。議題包括了因應海外獨立廠區在組織轉型上的探討；面對變動的多元環境、對於專案成本的分析，藉由外界的研究報告，希望能檢視目前工作的流程，提供實務應用上的估算邏輯及檢核參考；在產能短缺的壓力下，如何讓一個新建廠快速轉換成運轉廠，則以F18在5奈米及3奈米的成功經驗，提供了清楚的依循架構，文中並以Smart Copy Function手法的分享，展現了對此主題有利的實證。 廠務的穩定運轉，除了與時俱進的系統設計外，對於人力訓練，本期季刊也藉由回顧廠務學院成立的宗旨下，由作者進一步探討對廠務學院未來發展的走向提出其看法。 近年來，廠務組織更是擴增了技術發展及環境實驗室的人力，並設立廠務自動化的專責單位，凸顯了針對未來科技的應用及致力於環境永續的決心。本期季刊很開心看到這些肩負開創未來的同仁們分享了其工作領域上的見解，讓所有廠務同仁可以藉由此文章更了解他們的工作內容。 廠務管理不僅要以高質量來維護運營設施，並且要更智慧、更科技的系統管理手法來達成我們對廠區穩定生產的願景及使命，讓我們持續在科技運用及技術發展上成為不斷的創新者，共勉之。
莊子壽 Arthur Chuang | tschuang@tsmc.com
陳鏘澤 Tony Chen
范恩祖 E.T. Fan | etfan@tsmc.com
陳鏘澤 Tony Chen
孫揚淂 YangTe Sun | YTSUNL@tsmc.com
陳鏘澤 Tony Chen / 薛仁猷 J.Y. Hsueh / 洪永迪 Eddy Hung / 陳勇龍 YungLong Chen / 丁瑞華 Howard Ting / 江世雄 S.H. Chiang /
李明利 M.L. Lee / 于淳 Chwen Yu / 呂孟倉 Meng-Chang Lu / 鐘振武 Chenwu Chung