儀電

機械

水氣化

專案管理暨廠房

新工規劃

新工設計/技術

新工工程/品質

公共設施

年報

首頁 / 分期閱讀 / Vol.26 面對新型態的空污議題，廠務運轉新思維與挑戰
2017.6
Breakthrough and challenge of facility operation to face the new type of air pollution issues
2017.6, Vol.26 / 技術專文
The Control Mechanism for Hazardous Air Pollutants
有害空氣污染物防制機制
文 | 林宗標 | 江維捷 | 林意雄 | 南科廠務一部 |
有害空氣污染物包括VOCs、多環芳香烴化合物、重金屬及戴奧辛等。有害空氣污染物污染來源繁雜，其中多數可經過接觸、呼吸等方式危害國民健康安全。職業安全衛生與動物實驗均顯示，有害空氣污染物對人類具有致癌性、致突變性與致...

按讚

0

收藏

0
點閱 (119)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
Improvement of White Smoke and H2SO4 Particle from Stack
煙囪白煙及硫酸微粒防制改善
文 | 洪民翰 | 南科廠務四部 | 鍾善昌 | 南科廠務一部 |
南科十四廠五期於2012年5月開始投入量產，隨著新製程開發也衍生出前所未見的問題與挑戰，其中以濕式蝕刻製程因酸鹼混排延伸出煙道排放白煙以及硫酸微粒等問題最為困擾，既有的廢氣濕式洗滌塔與水渦流機已無法妥善處理白煙以及...

按讚

0

收藏

0
點閱 (97)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
Application of Exhaust Shunting Retrofit in Particulate Matter Reduction
排氣分流改造應用於粒狀物減量
文 | 吳怡君 | 中科廠務一部 |
PM2.5空氣污染與健康危害之議題開始受到重視，近年來PM2.5超過空氣品質標準，環保署公告2017年1月1日起各縣市列為三級空氣污染防制區，面對未來將進行總量管制及排放物種削減之趨勢，各廠需進行白煙粒狀物改善。目...

按讚

0

收藏

0
點閱 (86)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
Air Pollution Control Strategy for Next Generation Fab
新世代廠房的空氣汙染防制
文 | 吳曜安 | 劉子銘 | 中科廠務三部 |
台積公司最新世代的晶圓廠房座落於中科擴建區，為因應日益嚴峻的環保法規及民眾對環境品質要求提升的期望，新廠在空氣汙染防治部分，導入最先進的技術與設備，包括：中央洗滌塔水力薄膜、排放源導入現址型洗滌塔、水霧系統及HEP...

按讚

0

收藏

0
點閱 (109)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
New Challenges of Exhaust Reduction - EPI Dual ACP Exhaust Reduction Project
排氣減量新挑戰 - 雙磊晶反應室機台排氣
文 | 盧銘駿 | 竹科廠務三部 | 陳駿華 | 新廠設計部 |
磊晶機台共分成Main Chamber和氣櫃（Gas Box）兩個箱體，彼此互通，每個箱體上方銜接6吋的排氣風管，調整前兩支風管總抽風量為1248CMH，另外還有兩個預潔淨反應室（SiCoNi），各接6吋的排氣風管...

按讚

0

收藏

0
點閱 (50)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
High Boiling VOCs Treatment Techniques for Advanced Process of Semiconductor Plant
先進製程之高沸點揮發性有機物處理技術應用
文 | 葉峮甫 | 竹科廠務一部 | 林哲冠 | 竹科廠務一部 | 周家祿 | 竹科廠務三部 |
半導體製程中，最主要的揮發性有機化合物汙染物包含乙醇、異丙醇、丙酮、丁酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、單乙醇胺、雙三甲基矽胺，當中組成後沸點成分高過於150℃的汙染物可稱為高沸點揮發性有機化合物，其對半導體業常用的汙染處理...

按讚

0

收藏

0
點閱 (69)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
Central Scrubber Improvement Approaches
濕式洗滌塔宿疾改善對策
文 | 錢立行 | 竹科廠務一部 |
本文主要探討因應半導體廠氣體特性，將既有廠內排氣中酸鹼處理設備-中央洗滌塔進行改善，嘗試以新思維改善半導體廠排氣中矽微粒堵塞拉西環、菌類生長及因污泥堆積底部而須進行冗長保養程序之中央洗滌塔宿疾，並針對未攔截水量、塔...

按讚

0

收藏

0
點閱 (43)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
On-line IC Monitor System for AAS Chimney
煙囪連續監測系統技術探討
文 | 吳博哲 | 中科廠務一部 | 吳曜安 | 中科廠務三部 |
本文主要說明煙囪連續監測採樣系統的建構緣由及目的，探討此系統與手動採樣方法的優缺點，並與檢測公司使用之標準手法做比較。初步結果顯示由連續監測結果可發現，無機酸及氨隨時間的進行有明顯的變動，可見本採樣系統能及時的反應...

按讚

0

收藏

0
點閱 (42)
2017.6, Vol.26 / 新象新知
Air Pollution Issues and Challenges of High Tech Industry
空氣污染問題與高科技產業所面對的挑戰
文 | 蔡俊鴻 | 國立成功大學環境工程學系 |
空氣污染議題近年已成為臺灣社會關注之環境議題，引起民眾對健康與生活品質疑慮，亦造成社會經濟與產業發展之困擾。本文探討臺灣地區空氣品質變化特徵，介紹國內推動空氣污染防制策略沿革暨管制政策進展，亦針對科學工業園區排放空...

按讚

0

收藏

0
點閱 (56)
2017.6, Vol.26 / 新象新知
Removal Efficiency and Safety Assessment of Wet Electrostatic Precipitator Destruction for Total Suspended Particulate
濕式靜電集塵對粒狀污染物的處理評估與安全分析
文 | 楊詠翔 | 南科廠務四部 |
靜電集塵器具備高處理效率、高可靠度、低壓力損失、低耗能、無壓力波動、可連續運轉的特點。因此，靜電集塵器廣泛地被一般工業界所應用在改善空氣污染排放。然而，傳統乾式靜電集塵器有以下問題：粉塵沉積於集塵板表面與極線上造成...

按讚

0

收藏

0
點閱 (41)
南科十四廠五期工安訓練教室前 攝影 / 涂賢凱

editor’s column 編者的話

王俊元 | 南科廠務四部

近年來，臺灣空氣污染議題已不斷地發酵與升溫，不僅引起民眾對健康與生活品質疑慮，亦造成社會經濟與產業發展之困擾，引起社會與公民團體的廣大注目及輿論。然而，空氣污染的問題不單單涉及環境保護與經濟發展的衝突，亦涉及我國人民的健康風險危害。近年環保主題影片如「不願面對的真相」、「±2℃」、齊柏林「看見台灣」等所引起的溫室氣體及氣候變遷、細懸浮微粒（PM2.5）各類之環境議題，如雨後春筍般被討論。隨著民眾環境保護意識提升與對良好空氣品質之期盼，半導體/電子產業面臨空氣污染防制問題之挑戰亦更艱鉅。 回顧去年，我想無論是竹、中、南科，大家都戮力於粒狀污染物的解決與IPA排放的減量改善，而且經由廠務團隊的努力，充分發揮大家的專業技術，順利達成改善目標。本期季刊向各位讀者分享去年大家針對煙囪排放汙染物減量的努力經驗，內容包含有害空氣污染物防制機制、粒狀污染物的削減以及白煙的解決，同時介紹一個新的粒狀污染物處理技術─濕式靜電集塵法，並進一步更探討煙囪On-line IC連續監測技術與挑戰，包含排氣煙囪的分流最適化、如何利用現有分析儀器去改造以符合連續監測的需求，以及煙囪On-line IC連續監測儀器安裝位置。最後，也邀請國內針對空氣污染防制與空氣品質管理有相當研究的成大環工系蔡俊鴻教授，為大家介紹空氣污染問題與高科技產業所面對的挑戰。 期許各位讀者在閱讀本期季刊後，皆能於日常工作上有所運用或有助於新技術、方法的發想。

發行人 Publisher

莊子壽 Arthur Chuang | tschuang@tsmc.com

總編輯 Editor in Chief

范恩祖 E.T. Fan | etfan@tsmc.com

主編 Editor

王俊元 Jimmy Wang | jimmy_wang@tsmc.com

編輯顧問 Editorial Advisory

薛仁猷 J.Y. Hsueh / 陳鏘澤 Tony Chen / 陳勇龍 YungLong Chen / 江世雄 S.H. Chiang / 洪永迪 Eddy Hung

編輯委員 Editorial Board Members

李靜怡 Marie Lee / 林素芬 Sophie Lin / 鄭昭平 Tim Cheng / 林韋志 W.C. Lin / 吳明哲 Mike Wu / 曾恒毅 Heng-Yi Tseng / 李明利 M.L. Lee / 王若杰 Rouh-Jier Wang

美術主編 Art Director

洪湘寧 ViGi Hung | vigi_hung@tsmc.com