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首頁 / 分期閱讀 / Vol.30 下一個世代的空污防治與節能挑戰
2018.6
2018.6, Vol.30 / 技術專文
The Challenge of Semiconductor VOCs Exhaust Treatment System & Innovation of High Removal Efficiency
半導體業揮發性有機物高效率尾氣處理系統的設計挑戰與創新
文 | 楊詠翔 | 新廠工程管理部 |
由於半導體製造技術日趨複雜、環保意識抬頭，讓空污排放的議題成為輿論關注的焦點。目前公司所採用的沸石轉輪搭配焚化系統已具備可接受的處理效率及高可靠度之特點，也是目前業界主要的VOCs 處理技術。在面對空污排放的要求越...

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2018.6, Vol.30 / 技術專文
Innovative Method of Optimization Energy Saving Control for Positive and Negative 2°C -Chilled Water System
正負2℃–冰水系統最佳化控制創新方法
文 | 莊哲嘉 | 竹科廠務三部 |
在半導體廠房因冰水系統佔廠區用電量約20%，所以許多同行和專家在冰水系統節能控制方面投入了相當大的精力，但要使冰水系統中各運轉設備運轉於最佳效率點(最省能)目前在業界一直無法有效方法突破。本文應用大數據分析及利用各...

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2018.6, Vol.30 / 技術專文
The Study for Enhancement in the Removal Efficiency of Central Scrubber with Bubble Tower
罩泡塔應用於立式洗滌塔處理效率改善研究與探討
文 | 許顥儒 | 潘衍霖 | 陳能泉 | 中科廠務一部 |
半導體廠內洗滌塔為主要空氣污染物去除設備，但半導體廠有酸鹼混排問題，且氨氣佔年總排放量相對高，酸排氨氣主要來源為酸槽機台，在鹼洗酸性排氣洗滌塔中去除效率不佳。因此本文的目的在於探討改善既有立式洗滌塔的廢氣處理效率，...

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2018.6, Vol.30 / 技術專文
Research on IPA Chemical Filter Efficiency Improvement
談異丙醇化學濾網使用效率提升之研究
文 | 林瑞昆 | 竹科廠務三部 |
異丙醇(IPA)對於電化學電鍍(ECP)製程之晶邊良率具有極大的影響，ECP區域IPA主要來源為外氣空調箱(MAU)引入，汙染源來自於本身或鄰近廠區煙囪排放(約佔70%)，其次為化學研磨製程(CMP)機台洩漏或蝕刻...

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2018.6, Vol.30 / 技術專文
The Application of High-temperature Desorption for Honeycomb Zeolite Concentrator Treatment System in Semiconductor Fab Facility Systems
高溫脫附法應用於沸石轉輪處理效率改善之探討與驗證
文 | 陳仲祥 | 陳元昊 | 南科廠務一部 |
為了使揮發性有機物(VOC)處理設備保持良好的去除效率，例行保養(PM)是不可或缺的。然而，有些高沸點VOC是無法透過沸石轉輪清洗被清除，甚至隨著時間會有殘留於沸石轉輪的現象，迫使去除效率漸漸衰減至91%。因此，本...

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2018.6, Vol.30 / 技術專文
Local Scrubber Clogging Improvement and PM Frequency Reduction
製程廢氣處理設備 阻塞改善與保養頻率有效減量
文 | 王仁暉 | 南科廠務三部 |
製程廢氣處理設備因為會有副產物的產生，而需進行預防保養，但若副產物過於頻繁的阻塞問題發生，使得保養頻率升高，造成人力資源投入與負荷過大，即為異常阻塞事件，因此必須要進行各項阻塞改善措施去減量。本文即以南科廠所遇到的...

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2018.6, Vol.30 / 技術專文
The By-product and Parameter of Burning Type Local Scrubber
燃燒水洗式洗滌塔 操作參數與副產物探討
文 | 范銘哲 | 王仁暉 | 楊孟堯 | 南科廠務三部 |
製程廢氣中危害性氣體及全氟碳化物(PFCs)僅能由現址式空氣處理設備(Local scrubber)處理削減，而Local scrubber之操作參數與製程廢氣去除效率息息相關，為確保削減效率，大多以「Worst ...

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2018.6, Vol.30 / 技術專文
Application of Demister in Removal Performance Enhancement of Inorganic Acid and Base in Scrubber
水力薄膜應用於洗滌塔中 無機酸鹼去除效率之探討
文 | 張皓隆 | 南科廠務三部 |
半導體製程中經常使用到大量的有機溶劑及化學酸鹼溶液，部分化學物質會經由揮發或者高溫霧化而被排氣系統所收集至中央洗滌塔處理後排放，其中以濕式蝕刻製程因酸鹼混排延伸出排氣風管結晶與煙囪排放白煙以及硫酸微粒等問題最為困擾...

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2018.6, Vol.30 / 技術專文
Tool Exhaust HEPA Retrofit in Particulate Matter Reduction
高效濾網於機台排氣粒狀物減量之運用
文 | 陳昭文 | 中科廠務三部 | 吳曜安 | 新廠工程管理部 |
近年來PM2.5超過空氣品質標準，環保署公告2018年7月1日起將針對固定污染源的懸浮微粒、細懸浮微粒等粒狀污染物開徵空氣污染防制費，因應粒狀污染物減量趨勢，各廠需積極進行白煙粒狀物改善。目前先進製程的粒狀污染物排...

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2018.6, Vol.30 / 新象新知
Application of Non-thermal Plasma Catalysis for Energy Saving and Greenhouse Gas Reducing
低溫電漿加觸媒─節能減碳新技術
文 | 謝曜謙 | 竹科廠務一部 | 張木彬 | 國立中央大學 |
本文主要探討因應半導體廠排放氣體特性，將廠內熱電漿現址式空氣處理設備(Local Scrubber)進行節能改善，嘗試以新思維改善其高耗能的特性，並同時能保持對溫室氣體(PFCs、N2O)的高...

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竹科七廠接待大廳 攝影 / 洪湘寧

editor’s column 編者的話

洪男雄 | 竹科廠務二部

2018年3月14日，計畫設立於新北市的深澳電廠通過環評大會的審查，引起社會大眾的廣泛討論，因為這個計畫涉及兩個備受關注的主題，如何提供穩定的能源供應，又同時降低生產過程中產生的污染。本期季刊主題，亦環繞在提升能源的使用效率，同時透過創新思維，針對工廠內前、後段的污染防治設施進行改善，有效地降低半導體生產過程中產生的環境衝擊。 本期共收錄十篇文章，技術專文聚焦於機台端產生之微粒捕集技術，現址式空氣處理設備（製程廢氣處理設備）的優化，對於後端的中央處理單元，率先利用罩泡塔、水力薄膜提升酸鹼洗滌塔的去除效率，另針對揮發性的有機污染物防治，探討下一世代的雙轉輪設計。對於節能議題，探討透過冰水主機即時變溫改變，達成低能耗的運轉目標。新象新知則介紹低溫電漿技術，透過理論推導與機台測試，探討未來此一技術應用於現址式空氣處理設備的可能性。 隨著N10、N7逐步量產，製程世代的推進，伴隨著更複雜的工序及更多原物料的使用，公司在未來勢必要面對更多來自節能及減污方面的挑戰。300mm Fabs廠務自從在 2014年合併為一個組織後，廠務同仁透過更多的交流與學習，分享工作上的構想及方法，可以感受到同仁們在觀念與能力上已有所改變與提升，期許廠務團隊能攜手並進，一起迎向下一個世代的挑戰。

發行人 Publisher

莊子壽 Arthur Chuang | tschuang@tsmc.com

總編輯 Editor in Chief

范恩祖 E.T. Fan | etfan@tsmc.com

主編 Editor

洪男雄 N.H. Hung | nhhung@tsmc.com

美術主編 Art Director

洪湘寧 ViGi Hung | vigi_hung@tsmc.com

編輯顧問 Editorial Advisory

薛仁猷 J.Y. Hsueh / 陳鏘澤 Tony Chen / 陳勇龍 YungLong Chen / 江世雄 S.H. Chiang / 洪永迪 Eddy Hung

編輯委員 Editorial Board Members

李靜怡 Marie Lee / 林素芬 Sophie Lin / 鄭昭平 Tim Cheng / 李明利 M.L. Lee / 歐人華 J.H. Ou / 林韋志 W.C. Lin / 呂孟倉 Meng-Chang Lu / 王若杰 Rouh-Jier Wang / 張丁興 Deacon Chang / 李昇修 Sean Lee / 黃昭文 Jau Wen Huang