首頁 / 分期閱讀 / Vol.27 新世代廠務系統運轉的創新與突破
2017.9
本期季刊將針對水氣化系統如何在既有的運轉基礎上, 提出穩定運轉防禦對策以降低風險,並討論如何導入自動化、 智能化,提升化學品原物料更換效率與安全的新思維, 分享水氣化系統努力的成果與未來發展方向。
Vol.27 / 技術專文
Drum’s Hyper Logistic (DHL) System for Chemical Drum
桶裝化學品高效供酸新架構
因應未來人力成本高漲以及人力資源取得不易的問題,如何設計一套兼顧效率與供應品質並有效降低因人工操作必須面對的失誤風險,已然成為半導體廠務的重要課題。本計畫設計了一套為桶裝化學品量身打造的高效率輸送及供應系統,藉由高...

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點閱 (162)
Vol.27 / 技術專文
The Fingerprint Database of Chemical PPT Metal Pollution & Improvement
化學品金屬汙染指紋資料庫與改善對策
由摩爾定律「單位面積電晶體數目每18個月就會增加一倍」可知半導體業界晶圓線寬將日漸縮小。因應電晶體線寬的縮小,黃光、蝕刻等製程要求的化學品純度也越高,從早期「百萬分之一」(Parts Per Million, PP...

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點閱 (145)
Vol.27 / 技術專文
Improvement of Slurry Dispense System
化學研磨液供應系統的改善
隨著半導體產業日新月異的發展,整條製程產線上從化學品供應系統到設備機台都須不斷地強化更新。本篇著重在化學研磨液供應系統的強化。現今化學研磨液供應系統雖趨於成熟,但為了因應新物料的產生、使用者需求、更精準的品質以及強...

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點閱 (60)
Vol.27 / 技術專文
Chemical Consuming Defense System
化學品用量異常即時偵測系統
半導體製造工廠所使用之化學品,大部分由廠務端中央供應系統自動供應至產線端設備機台。當設備機台發生異常時,容易發生化學品異常大量使用。為了使化學品異常使用防禦系統達到即時且全面性的能力,廠務與自動化整合部門共同開發「...

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點閱 (56)
Vol.27 / 技術專文
The Technology and Opportunity of Zero Liquid Discharge
業界廢水零排技術與機會點
降低環境污染的議題是各國致力追求的目標。從2015年12月國內友廠於新聞發佈製程廢水零排放開始,零排變成各行各業所討論的標竿,但零排放需付出更多的電能,對於環境不見得是友善。本文透過分析業界零排放的重要技術(MBR...

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點閱 (80)
Vol.27 / 技術專文
A Study of Biological Acute Toxicity
談放流水生物急毒性之研究
本文主要分析半導體廠廢水生物急毒性潛在問題,建立主要毒性物質之管制標準,以作為毒性之減量量及處理理方法選用依據。目前放流水生物急毒性標準檢測方法需48至96小時才能得知急毒性數值,本研究期能即時掌握放流水質狀況,維...

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點閱 (89)
Vol.27 / 技術專文
Advanced Organic Treating Wastewater with Wastewater– Wastewater Treatment with Bio System
以廢水治廢水─ 以生物處理有機廢水
台積公司廠務製程廢水分流確實,其優勢在於分流後,可規劃流程簡單且較小系統設計量,但也因此需添加更多化學品,例如酸、鹼廢水分流處理後,酸鹼廢水各自需添加化學藥劑進行中和。有鑑於此,我們希望尋找「以廢水治廢水」之機會點...

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點閱 (68)
Vol.27 / 技術專文
Strict Defense – The Optimum Operation Defense of Ammonia Nitrogen System Membrane Degasifier
禦敵從嚴─氨氮系統脫氣膜最佳運轉防禦
半導體製程中會產生高濃度氨氮廢水,廠內以脫氣膜資源最佳化方式去除水中氨氮,脫氣膜法於膜管內通以硫酸,膜管外通以氨氮廢水,藉由質傳效應使硫酸吸收廢水中氨氣,形成硫酸銨副產物。此方法除了可消耗廠內製程行為產生之大量廢硫...

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點閱 (71)
Vol.27 / 技術專文
Reverse Flush Strategy Analysis of Reverse Osmosis in High Concentration Wastewater Environment
逆滲透膜於高濃廢水下之反向流交互產水操作策略
對半導體製造業大廠而言,水資源高度依賴與廢水排放品質,視為汙染減量與環境改善之標竿,2016年新設之逆滲透二段濃縮處理設備,負責進階回收內含氫氟酸廢水與廢氣洗滌塔廢水之逆滲透濃縮廢水,該廢水導電度極高,並內含多種化...

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點閱 (51)
Vol.27 / 技術專文
Effluent Reclamation-Optimization in Operation of Process Pilot
工業再生水研發─ 回收模廠運轉最佳化
再生水模廠(AOP Pilot)設備於2015年11月導入晶圓工廠排放廢水,成功克服原水高濃度TOC,然處理流程複雜及運轉成本較高;我們完成高難度的晶圓廠排放廢水,接著最終目標是處理南科放流水,從中找出流程簡化且兼...

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點閱 (93)
Vol.27 / 新象新知
Application of Factory Automation and Intelligentization
廠務自動化與智能化之應用
拜摩爾定律所賜,新科技因成本不斷降低而大幅的躍進。其中自動化技術在這個加速創新的環境下更是站在浪潮頂端,尤其是視覺辨識、視覺導航和微控制技術的結合,讓機器手臂長了眼睛,可以作出更細微的動作。當這項技術容易取得後,一...

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中科十五廠六期廠務學院氣化中心 攝影/ 洪湘寧

editor’s column 編者的話

彭榮晃 | 竹科廠務四部

廠務在晶圓生產過程中扮演穩定基石的角色,一方面要供應高品質的水、電、氣、化,另一方面在節水減廢的相關環保議題也要持續不斷精進。本期季刊針對水氣化系統如何在既有的運轉基礎上,提出穩定運轉防禦對策以降低風險,並討論新世代廠務系統如何導入自動化、智能化,提升化學品原物料更換效率與安全性之創新思維,本期共收錄十一篇文章,分享水氣化系統努力的成果與未來發展方向。 氣化領域共有四篇,〈桶裝化學品高效供酸新架構〉首創將供酸系統中的Drum單元與流動棚結合,有效提升搬運效率。〈化學品金屬汙染指紋資料庫與改善對策〉分析現行化學品量測過程中之干擾因子加以實驗佐證並改善,提高量測成功率。〈化學研磨液供應系統的改善〉則是提出化學研磨液供應系統之常見問題與對策。最後的〈化學品用量異常即時偵測系統〉,是廠務與自動化整合部門(CIM)共同開發自動化系統,達到快速、即時、有效地偵測到化學品異常用量。 水處理系統共六篇,〈業界廢水零排技術與機會點〉分析業界零排放的重要技術,並評估應用於未來運轉上。〈談放流水生物急毒性之研究〉分析廢水生物急毒性潛在問題及管制標準,作為毒性減量及處理方法選用依據。〈以廢水治廢水─以生物處理有機廢水〉透過有機廢水所含之IPA為碳源,使生物系統發揮完整效益。〈禦敵從嚴─氨氮系統脫氣膜最佳運轉防禦〉、〈逆滲透膜於高濃廢水下之反向流交互產水操作策略〉兩篇,提出脫氣膜與逆滲透膜運轉之防禦對策, 提高系統穩定度。〈工業再生水研發─回收模廠運轉最佳化〉再生水模廠透過流程簡化,成功將單價降低並符合水質目標。 在新象新知部分,本期分享〈廠務自動化與智能化之應用〉,討論如何透過自動化技術實現化學品原物料無人化自動更換,並提出新科技於廠務運轉可能的應用,以邁向智慧工廠的新世代。

發行人 Publisher

莊子壽 Arthur Chuang | tschuang@tsmc.com

總編輯 Editor in Chief

范恩祖 E.T. Fan | etfan@tsmc.com

主編 Editor

彭榮晃 L.H. Peng | lhpeng@tsmc.com

編輯顧問 Editorial Advisory

薛仁猷 J.Y. Hsueh / 陳鏘澤 Tony Chen / 陳勇龍 YungLong Chen / 江世雄 S.H. Chiang / 洪永迪 Eddy Hung

編輯委員 Editorial Board Members

李靜怡 Marie Lee / 林素芬 Sophie Lin / 鄭昭平 Tim Cheng / 李明利 M.L. Lee / 尤國男 G.N.You / 張俊鴻 Hank Chang / 丁瑞華 Howard Ting / 曾恒毅 Heng-Yi Tseng / 洪男雄 N.H. Hung / 王俊元 Jimmy Wang

美術主編 Art Director

洪湘寧 ViGi Hung | vigi_hung@tsmc.com