Nitrogen oxide reduction strategies in advanced fabs
先進廠區氮氧化物減量策略
半導體在製造晶圓的過程中，經常使用大量的「全氟烷化合物」(Perfluorinated compounds, PFCs)，防治設備處理這類型污染物通常是利用高溫裂解使其與氫與氧離子(H+、O...
按讚
0收藏
0點閱 (35)