發表文章(2)

Vol.36 / 技術專文
High Concentration H2O2 Wastewater Treatment Technology of Semiconductor Assembly
先進封裝廠含高濃度雙氧水廢液處理技術與實務探討
晶圓半導體製造工廠大部分高濃度雙氧水廢液排放至廠務廢水系統進行調勻處理,先進封裝廠區廢水量較晶圓廠區小,若直接排放至廢水系統將造成放流水超標風險。因此需委外處理高濃度雙氧水廢液,對環境與公司營運成本皆造成負面影響。本文藉...

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Vol.27 / 技術專文
Chemical Consuming Defense System
化學品用量異常即時偵測系統
半導體製造工廠所使用之化學品,大部分由廠務端中央供應系統自動供應至產線端設備機台。當設備機台發生異常時,容易發生化學品異常大量使用。為了使化學品異常使用防禦系統達到即時且全面性的能力,廠務與自動化整合部門共同開發「...

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