發表文章(3)

Vol.39 / 技術專文
Visual Management for AMC Concentration Map
AMC濃度分布圖之視覺化管理
半導體製程之快速演進,氣態分子污染物(Airborne Molecular Contamination, AMC) 對於半導體廠的製程良率具有顯著影響,普遍於機台清潔與晶圓清洗製程或自廠排放及外氣蓄積進入FAB,造成環境...

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Vol.38 / 技術專文
Facility Systems Supply Parameter Change Management
落實廠務全面品質管理的關鍵議題–廠務變更管理
在晶圓廠中廠務系統所扮演的角色是提供穩定、有品質的物料(SDS、CDS、 GAS)供機台設備製造晶圓使用;因此,提供穩定而有品質的物料是廠務永遠追求的目標,而關鍵點就在於系統機台的參數設定,參數的設定失真會影響到物料的輸...

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Vol.21 / 技術專文
Information on the Internet KVM Infrastructure Applications for Facility Control System
廠務控制系統之資訊互聯網KVM架構應用
廠務控制系統在工廠扮演著控制中心的角色,除了擔負著廠務系統穩定持續運轉及維持高供應品質的任務外,也需要確保環境與人員安全。本文主要探討為因應廠務組織調整後跨廠區值班需求,必須新增遠方操作功能,並以十二廠為例,討論選...

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