發表文章(1)

Vol.18 / 技術專文
Ultrapure Water Inspection Method for 10 nm
利用掃描式電子顯微鏡之超純水中的10奈米微粒子檢測技術
近年,隨著半導體裝置/元件(Device)的高度積體化,促使製造技術的細微加工化發展,線寬變得越來越狹窄。半導體製造領域的超純水,必須提供高純度的水質,特別是直接影響良率的微粒子(Particle),其粒徑與濃度都...

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