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2020.6, Vol.36 / 技術專文
New Technology of NH4N High Removal Efficiency and Recycling in Caustic Wastewater-Stripper
鹼性廢水中氨氮的高效脫除與資源再利用新技術
文 | 韓華楊 | 劉建國 | 南京廠務一部 水處理課 |
對於半導體製造業大廠，廢水有效處理達到排放要求，高濃度的氨氮廢水處理格外重要，尤其針對南京廠，根據最新出臺的《江蘇省半導體行業排放標準》，政府規定的硫酸鹽類濃度小於600ppm，且氨氮外排標準已由45ppm 調整至20p...

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2020.6, Vol.36 / 技術專文
Crystallization Technology of Semiconductor Waste Sulfuric Acid Recovery to Industrial Grade Ammonium Sulfate Liquid
半導體廢硫酸回收轉製成工業級硫酸銨乾燥技術探討
文 | 曾俞勳 | 中科廠務二部 | 劉憲文 | 南科廠務七部 |
為了達成「廢棄物產出最小化與資源回收最大化」的循環經濟理念，台積公司持續推動源頭減量及廠內廢棄物回收再利用。 本次研究導入普遍用於化工業的「結晶乾燥系統」，對硫酸銨廢液進行蒸發濃縮產出工業級硫酸銨晶體，不但節省硫酸銨委外...

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