目前台積電各廠皆以鹽酸法去除廢硫酸中的雙氧水後回用於氨氮廢水處理等系統，本文針對既有鹽酸法所衍生之含氯物質(氯氣、氯離子)之腐蝕、殘留等問題作一探討和研究後，提出新的處理技術-硝酸法，並透過實驗室以及模廠兩種不同等...

隨著製程技術持續推進，許多新的製程機台以及化學品首次導入，我們發現新建廠區有放流水之 COD 值偏高問題。為解決這個問題，我們一方面進行廠內 COD 污染源之追查，透過源頭分析及查找，發現 IPA 為廢水中 COD 之貢...

在半導體製程中常使用於晶圓乾燥、清潔之IPA化學品，隨著製程技術之推進以及晶圓線寬之微縮，導致IPA廢液在質與量均大幅改變：廢液量大幅增加但含水率過高，導致已無回收價值，僅能以焚化方式處理，造成處理費用增加。本研究...