發表文章(2)

Vol.27 / 技術專文
The Fingerprint Database of Chemical PPT Metal Pollution & Improvement
化學品金屬汙染指紋資料庫與改善對策
由摩爾定律「單位面積電晶體數目每18個月就會增加一倍」可知半導體業界晶圓線寬將日漸縮小。因應電晶體線寬的縮小,黃光、蝕刻等製程要求的化學品純度也越高,從早期「百萬分之一」(Parts Per Million, PP...

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Vol.23 / 技術專文
Innovation in Slurry In - line H2O2 Detection
研磨液之雙氧水即時量測技術進化
本文主要分析雙氧水滴定儀使用上之問題,針對六向閥和螺桿組進行新概念設計、硬體改造,以及軟體計算進行驗證和優化,包含將滴定儀用作定量的六向閥移除,改由閥件之滯吸力進行定量,並將定量管拉出毛細管,強化管內的附著力,避免...

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