Treatment of Advanced Semiconductor Cobalt Sulfate Wastewater
先進半導體硫酸鈷廢水特性與處理技術探討
由於半導體先進製程演進，化學品使用成分複雜，產生製程廢水處理亦趨困難，其中，硫酸鈷廢水主要來源為ECP(Co)與CMP(Co)製程所產生，且先進半導體鈷金屬放流濃度要求為ng/L(ppb)等級，此為先進半導體製程首次面對...
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