發表文章(6)

Vol.40 / 新象新知
The Feasibility of Using UV254 to Replace TOC/COD Analyzer
水質監測以UV254取代TOC/COD分析儀可行性評估
因應半導體製程日趨進步,傳統總有機碳(Total Organic Carbon, TOC)及化學需氧量(Chemical Oxygen Demand, COD)監測方式分析時間長,較難反映水質的快速變化,本文根據Beer...

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點閱 (94)
Vol.36 / 技術專文
Pratices of Cobalt Sulfate Wastewater Recycling as a Realization of Circular Economy
論含硫酸鈷廢水循環經濟再利用之實務處理方法
台積竹科十二吋廠區生產先進製程晶圓,其機台將排放含鈷廢水,排放規劃則依據排水含鈷濃度從機台進行分流,低濃度含鈷廢水(<100mg/L)導入鈷樹脂提濃系統處理,高濃度廢液(2,300mg/L)委外清運,隨著先進製程產...

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點閱 (75)
Vol.31 / 技術專文
Applying Leveling Agent in W-CuSO4 Plating System for Performance Enhancement
平整劑應用於液中求銅系統產能提升
廢液電解中常因部分干擾物質造成電鍍層外表結構不一定規則狀,在共同的電流下,端子離陽極距離較近的部位稱為局部高電流區,局部高電流區電解形成速度較快,在惡性循環下造成銅花的情形發生,進而造成橋接短路發生,廢液電解中最常...

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Vol.27 / 技術專文
Reverse Flush Strategy Analysis of Reverse Osmosis in High Concentration Wastewater Environment
逆滲透膜於高濃廢水下之反向流交互產水操作策略
對半導體製造業大廠而言,水資源高度依賴與廢水排放品質,視為汙染減量與環境改善之標竿,2016年新設之逆滲透二段濃縮處理設備,負責進階回收內含氫氟酸廢水與廢氣洗滌塔廢水之逆滲透濃縮廢水,該廢水導電度極高,並內含多種化...

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金筆獎入圍
Vol.23 / 技術專文
Treat Wastewater by Wastewater! Treatment of IPA and COD Wastewater by UV/AWD H2O2 Process
廢水處理廢水!以紫外光結合雙氧水 廢水程序處理異丙醇與化學需氧量廢水
本文測試目的為利用高級氧化程序處理廠內含IPA與COD有機廢水,測試中利用廠內含H2O2廢水當為水處理原料並結合UV催化系統所形成OH‧自由基處理廠內含高濃度有機廢水,經由測試結果IPA去除率達99.5%,COD和...

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Vol.15 / 技術專文
Selection of Water Proofing Method and Quality Verification for Water Tank
製程水箱防水施作工法的選定與品質驗證
有鑑於過去許多既有廠區之製程水箱皆採用彈性水泥防水工法,其日後水箱漏水情況持續發生,維修不易且麻煩;因此採用防水性更好的防水工法成為必要的趨勢。本文將舉出幾種常見之防水工法說明其工序與優缺點,並比較其中差異,最後再...

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