Vol.47 / 技術專文
Cleanroom Supply Air Quality Improve-Outside Air Pre-washer
無塵室空氣再淨化-外氣預水洗處理
半導體製程世代持續演進,製程對氣態分子汙染物AMC(Airborne Molecular Contamination)管控要求亦越趨嚴格及重視,如何有效控制無塵室內AMC品質便成為廠務運轉上的重要課題。以AMC要求...

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Vol.39 / 技術專文
Response Methodology of AMC Contamination and Recovery Procedure
AMC污染應變對策及復原程序
目前TSMC緊急應變內控作業流程,有針對異味、氣體、化學品洩漏訂立一套處理流程。然而針對氣體、化學品洩漏處理流程,皆是朝硬體設備的復原方向進行,對於洩漏所產生的AMC汙染並沒有說明該如何緊急應變。因此想藉由此次探討,建立...

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Vol.39 / 技術專文
Defense Mechanism of Outside Air AMC MeCl2        
外氣AMC MeCl2防禦機制
半導體的線寬越來精細,製程的複雜度越來越高,相對製程良率受外在環境影響的可能性也越來越大,氣態分子汙染物(Airborne Molecular Contamination, AMC) 一直都是受到關注的對象,也因為製程的...

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