The application of two-fluid atomization nozzle and cyclone dust collection
粉塵變不見 - 二流體與旋風集塵的綜合運用
半導體製程當中，每一道製程均有不同的副生成物，其中爐管製程中的六氯矽乙烷(HCD)與二氯矽甲烷(DCS)高溫燒結與水洗後所產生的二氧化矽(SiO2)粉塵與鹽酸(HCl)一直是難以處理的項目，不但會造...
按讚
0收藏
0點閱 (75)