TSMC 廠務季刊

2020.7, Vol.37 / 技術專文

The Protection Strategies of Electromagnetic Interference and Electrostatic Discharge in Advanced Semiconductor Fabs

先進半導體廠電磁干擾與靜電放電之防護策略

文 | 歐人華 | 中科廠務三部 |

本文主要探討在先進半導體廠，電磁干擾與靜電放電對生產的影響，及如何採取合適的防護策略；在電磁干擾部份，將由電磁波、電磁場切入，說明「游離輻射」與「非游離輻射」差異，而在電磁波的防制與改善上，將提出「被動式屏蔽」及「主動式...

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2017.3, Vol.25 / 技術專文

Background Noise Reduction of HV Partial Discharge Monitoring System

高壓系統局部放電雜訊背景改善

文 | 賴柏青 | 南科廠務一部 |

TSMC導入了在線式局部放電監控技術(on-line PD)[1]，於主高壓設備監控，期能早期偵測出異常前兆，降低高壓元件故障影響之事故發生。量測技術為高頻電磁場量測法(近十幾年來局部放電偵測...

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金筆獎入圍

2013.6, Vol.10 / 技術專文

Real Time Monitoring System for Low Frequency Magnetic Field in Semiconductor Fabs

低頻磁場即時監測系統於半導體廠房的應用

文 | 于淳 | 廠務技術發展專案 |

半導體廠房內到處都充斥著電磁波，為使機台彼此不受電磁波干擾而能正常作業，就必須作好半導體廠房的電磁波管理，第一步先要建立即時電磁波監測系統，本文探討即時電磁波監測系統所需的感測器要求、即時電磁波監測系統建立的方式，...

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2012.7, Vol.07 / 技術專文

Decay Distance of Magnetic Field Emitted by Tools

機台產生的磁場其衰減強度與距離關係之探討

文 | 于淳 | 廠務技術發展專案 |

機台作業時會產生電磁波，為使機台彼此不受電磁波干擾，筆者即進行機台磁場強度的衰減距離研究，以便找出機台之間不受電磁波干擾的安全距離。除了實際測量並搭配理論來做擬合，並透過合理的參數來做物理理論擬合的解釋，結果發現機...

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2011.7, Vol.03 / 技術專文

Passive EMI Shielding Approach for CDSEM

以被動屏蔽(passive shielding)方式解決CDSEM受低頻磁場干擾之案例

文 | 于淳 | 研究專案部 |

在第一期的新工季刊中，曾介紹關於電子束作業機台受低頻磁場干擾與防治的相關理論和方法，本期筆者將以在F12P4 跟微影設備工程師一同用被動屏蔽來解決受低頻磁場干擾的CD-SEM為例，與大家經驗分享。...

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金筆獎入圍

2011.4, Vol.02 / 特別企劃

EMI (Electromagnetic interference) Measurement and Improvement in Cleanroom – taking F12P4/P5 as an example

無塵室的EMI量測與汙染 - 以F12P4/P5為例

文 | 于淳 | 研究專案部 |

在現今高科技的廠房，一定會使用到需要電壓電流來操作的大量電機電子式機台，其內是由許多電子元件或感測器來控制機台作業，因此機台不可避免地就會受到電磁干擾EMI (EMI：electromagnetic interfe...

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2011.1, Vol.01 / 技術專文

Introduction of ELF Magnetic Field Shielding

淺談極低頻磁場的防治 - 讓作業機台減少電磁波影響

文 | 于淳 | 計劃整合及研究專案部 PIRP |

今日消費性的科技產品隨著輕薄短小及節能減碳的要求，使得半導體的製程越縮越小，已邁入 28nm 的製程量產， 20nm 的製程也正積極的研發中。隨著製程的縮小，電磁波干擾 (EMI) 的問題也慢慢浮現，其中以極低頻磁...

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