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2023.12
水氣化系統面對各世代製程之挑戰與綠色製造創新發想
Vol.52 / 技術專文
Advanced Process Cobalt Wastewater Treatment and Recycling Achievements
先進製程含鈷廢水處理及其資源化再利用成果
台積電新世代製程新增使用含鈷化學品及靶材,導致廢水鈷濃度提高,因鈷為國際癌症研究機構定義之致癌物,基於企業社會責任台積電以ICP-OES檢測偵測極限(2.3ppb)作為自主管理標準,本文主要呈現先進製程廠區含鈷廢水...

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Vol.52 / 技術專文
Practical Experience for a New Fab Commission of Chemical Dispense System
新成廠化學供應系統快速驗機方法與實務
化學品供應系統於新廠初期,通常第一波供酸是最緊迫的,建置過程除了工程進度不足還要留意機台需求變更,以及相關毒化物證照取得前也會限制原液洗酸作業,為了滿足機台送酸需求,需要規劃驗機程序,配合commission te...

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Vol.52 / 技術專文
Innovative management strategies for water systems in the new generation of manufacturing processes
新世代製程之水系統創新管理對策
本文累積過往新成廠經驗,水處理系統在這些過程中遇過許多挫折但也因這些經驗,逐步強化水處理系統防禦機制,發展出一套管理方法,面對快速成廠的過程中,面臨系統尚未完成建置,需逐步與設備協調其純水與化學品洗淨的總量管制,在...

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Vol.52 / 技術專文
Practice of Biological Process Treatment in Organic Wastewater and Innovative Ideas
生物工藝處理TMAH廢水實踐分享與創新發想
隨著溫室效應的不斷增強,碳達峰、碳中和逐漸成為全球持續關注的話題,而作為半導體行業的領頭羊,公司也在踐行ESG理念,極大地鼓勵並逐步建成建立環境友好型生產處理產綫。在此基礎上,上海厰通過多種小試實驗,結合國內其他行...

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Vol.52 / 技術專文
Supply Risks and Countermeasures of GC under Extremely Cold Weather
極寒天氣下氣化課供應風險與應對策略
台灣地區位於北緯21°~25°,全年平均氣溫22~27℃,冬季氣候最低僅至4~5℃,目前因極寒天氣造成氣化課運轉異常的報道較少,而隨著台積全球化佈局的進行,各地氣候差異對氣化課運轉影響越來越不可忽視...

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Vol.52 / 技術專文
Quality control-breakthrough development of analytical instrument for slurry dispense system
品質監控-化學研磨液系統分析儀器突破性發展
半導體先進製程_CMP化學機械研磨,所使用之Slurry 研磨液品質與CMP defects 息息相關,如何適當地分析研磨液品質更顯得重要。研磨液其組成除了包含研磨粒子之外,還包括一些少量且不同功能的化學品,例如:...

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editor’s column 編者的話

鄧順展 Brady S.C. Teng | 高雄廠務二部

隨著半導體製程技術演進,面臨的挑戰也不斷變化。廠務作為工廠穩定運轉的基石,在滿足工廠多樣性新製程的需求外,也必須克服新製程帶來的環境衝擊。因此必須不斷創新改進、精益求精才能解決日新月異的製程及環境問題。 綠色製造理念深植於每位台積人心中,將其應用於系統設計與營運發展。減少對環境的影響,提倡再生資源利用率以及降低製造過程中的能源消耗和廢棄物。 不僅保護環境也符合持續性發展的長遠目標,兼顧公司對社會、環境、永續管理的責任。 創新發想是推動水氣化系統發展的原動力,我們必須思考如何透過技術創新解決製程問題且符合綠色製造理念。 包含打造永續運轉環境、優化系統參數減少廢棄物排放,尋找節能運轉方案達到循環經濟。 本期季刊網羅各廠區運轉專家共22篇精彩文章,圍繞著水氣化系統,說明如何透過創新設計、穩定運轉、全面翻新等解決各世代製程的疑難雜症,達到工廠運轉品質提升、降低生產風險、創造ESG永續管理與綠色製造。 總結來說,面對各世代製程的挑戰,水氣化系統更需要結合創新技術與綠色製造理念,從強化檢測品質、水質管理、改善工作環境、確保工廠的永續運營與穩定運轉,同時也強化企業對社會責任與環境保護的承諾。 希望透過經驗與學術傳承,激發更多創新思維,穩健基礎並持續精進與強化系統體質,讓廠務有如強力的後盾,在工廠製程演進的路途上扮演穩定運轉的基石。

創辦人 Founder

莊子壽 Arthur Chuang | tschuang@tsmc.com

發行人 Publisher

陳鏘澤 Tony Chen

總編輯 Editor in Chief

范恩祖 E.T. Fan | etfan@tsmc.com

本期主編 Editor

鄧順展 Brady S.C. Teng

美術主編 Art Director

孫揚淂 YangTe Sun | YTSUNL@tsmc.com

編輯顧問 Editorial Advisory

陳鏘澤 Tony Chen / 薛仁猷 J.Y. Hsueh / 洪永迪 Eddy Hung / 陳勇龍 YungLong Chen / 丁瑞華 Howard Ting / 江世雄 S.H. Chiang / 許天賜 Alex Hsu

編輯委員 Editorial Board Members

蕭宇辰 Aaron Hsiao / 蔡瑋珉 Wei-Min Tsai / 黃文聖 Eric Huang / 邱柏翔 P.H. Chiou / 鍾易龍 Yi-Lung Chung / 張詠翔 Yung-Hsiang Chang / 謝忠惠 C.H. Hsieh / 賴冠旭 K.H. Lai / 劉駿 Jimmy Liu / 劉俊男 Chun-Nan Liu / 楊凱迪 K.T. Yang / 梁偉政 Wei-Cheng Liang / 楊文守 W.S. Yang / 黃俊雄 Jiun-Shiung Huang / 張博雄 Bo-Shone Chang / 曾杰玉 C.Y. Tseng / 林正祈 C.C. Lin / 連紹凱 S.K. Lien / 崔鵬飛 P.F. Cui / 陸遷 Q. LU / 童國倫 Allan Tung /