張皓隆

張皓隆 H. L. Chang

台北科技大學能源與冷凍空調研究所畢業，先前於石化廠廠務儀電課任職。

發表文章(2)
2019.9, Vol.35 / 技術專文
Reduction Strategy for Sulfuric Acid Emission of Stack in Semiconductor Industry
半導體業煙道硫酸排放減量策略
文 | 楊孟堯 | 楊映茹 | 張皓隆 | 南科廠務三部 |
在12吋晶圓廠中隨著產能不斷提升，排氣風量與硫酸使用量增加，硫酸排放總量逐漸受到主管機關的重視。以最新12吋晶圓廠為例，使用硫酸的最大來源是高溫硫酸製程機台及廠務桶槽，參考文獻研究顯示處理廢氣入口濃度越高洗滌塔處理...

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2018.6, Vol.30 / 技術專文
Application of Demister in Removal Performance Enhancement of Inorganic Acid and Base in Scrubber
水力薄膜應用於洗滌塔中 無機酸鹼去除效率之探討
文 | 張皓隆 | 南科廠務三部 |
半導體製程中經常使用到大量的有機溶劑及化學酸鹼溶液，部分化學物質會經由揮發或者高溫霧化而被排氣系統所收集至中央洗滌塔處理後排放，其中以濕式蝕刻製程因酸鹼混排延伸出排氣風管結晶與煙囪排放白煙以及硫酸微粒等問題最為困擾...

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