發表文章(2)

Vol.45 / 技術專文
Air pollution Improvement-As Emission Reduction Analysis
空污改善-煙道有害空氣污染物-砷及其化合物減量研究
因應環保署新增半導體煙道有害空氣汙染物排放限值,廠內離子植入使用之砷化氫經處理後產生之砷及其化合物屬於公告物種之一,公司除需符合法規也有責任降低砷及其化合物之排放量。

解析F14B歷年煙囪檢測砷...

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Vol.35 / 技術專文
Reduction Strategy for Sulfuric Acid Emission of Stack in Semiconductor Industry
半導體業煙道硫酸排放減量策略
在12吋晶圓廠中隨著產能不斷提升,排氣風量與硫酸使用量增加,硫酸排放總量逐漸受到主管機關的重視。以最新12吋晶圓廠為例,使用硫酸的最大來源是高溫硫酸製程機台及廠務桶槽,參考文獻研究顯示處理廢氣入口濃度越高洗滌塔處理...

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