Vol.47 / 技術專文
AI application-AMC prediction by machine learning and pollution source analysis
應用AI-AMC機械學習預測與污染來源分析
因應市場的需求,半導體製程技術演進快速,電晶體30年內已縮小了1000倍,到了五奈米的技術,而隨著規格及產線環境要求的提升,氣態分子微汙染(airborne molecular contamination, AMC...

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Vol.39 / 技術專文
AMC Improvement Using CFD Analysis in CUP Area
從空污及煙流模擬改善運轉廠區AMC微污染
半導體廠房因土地空間的限制將煙囪設計於廠房的屋頂,當煙囪與外氣空調箱進氣口設計不良時導致污染物被MAU吸入至廠房內,形成AMC微污染。本文研究減少MAU進氣口受到污染物的影響,首先利用IC放樣得知冬天(東北季風)時進氣口...

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Vol.39 / 技術專文
Intelligent monitoring Method in AMC is applied to Litho Lens for early pollution prevention and filter efficiency detection mechanism
AMC智能監控應用於黃光Lens早期汙染預警防護及濾網效率檢測機制
半導體產業按照摩爾定律蓬勃發展,對於無塵室內的溫溼度、氣態分子汙染物等生產環境品質的控管越趨嚴格,影響著製程區域產品良率。廠務端以自動分析儀器對環境進行AMC定點監控已成為各廠標準模式,並輔以人力至現場巡檢。本篇為加強黃...

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