Vol.18 / 技術專文
Ultrapure Water Inspection Method for 10 nm
利用掃描式電子顯微鏡之超純水中的10奈米微粒子檢測技術
近年,隨著半導體裝置/元件(Device)的高度積體化,促使製造技術的細微加工化發展,線寬變得越來越狹窄。半導體製造領域的超純水,必須提供高純度的水質,特別是直接影響良率的微粒子(Particle),其粒徑與濃度都...

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Vol.03 / 技術專文
Passive EMI Shielding Approach for CDSEM
以被動屏蔽(passive shielding)方式解決CDSEM受低頻磁場干擾之案例
在第一期的新工季刊中,曾介紹關於電子束作業機台受低頻磁場干擾與防治的相關理論和方法,本期筆者將以在F12P4 跟微影設備工程師一同用被動屏蔽來解決受低頻磁場干擾的CD-SEM為例,與大家經驗分享。...

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金筆獎入圍
Vol.02 / 特別企劃
EMI (Electromagnetic interference) Measurement and Improvement in Cleanroom – taking F12P4/P5 as an example
無塵室的EMI量測與汙染 - 以F12P4/P5為例
在現今高科技的廠房,一定會使用到需要電壓電流來操作的大量電機電子式機台,其內是由許多電子元件或感測器來控制機台作業,因此機台不可避免地就會受到電磁干擾EMI (EMI:electromagnetic interfe...

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