TSMC 廠務季刊

2018.9, Vol.31 / 技術專文

文 | 周劻輝 | 南科廠務五部 |

隨著法規納管標準漸趨嚴謹，半導體製程中廣泛使用氨水及硫酸，造成排放廢水含有高濃度氨氮以及廢硫酸廢棄物。業界普遍以脫氣膜方式去除水中氨氮濃度，進而衍生產出硫酸氨廢棄物。故本文介紹利用氨氮系統參數優化調整及硫酸氨回流等...

按讚

0

點閱 (124)

2017.9, Vol.27 / 技術專文

文 | 楊政儒 | 陳建助 | 竹科廠務三部 |

半導體製程中會產生高濃度氨氮廢水，廠內以脫氣膜資源最佳化方式去除水中氨氮，脫氣膜法於膜管內通以硫酸，膜管外通以氨氮廢水，藉由質傳效應使硫酸吸收廢水中氨氣，形成硫酸銨副產物。此方法除了可消耗廠內製程行為產生之大量廢硫...

按讚

0

點閱 (71)

2014.6, Vol.14 / 技術專文

文 | 李玫 | 新廠設計部 | 傅正貴 | 十四廠七期專案 | 王俊元 | 十四B廠廠務一部 |

半導體事業所排放的廢水常含有高濃度的氨氮與雙氧水，具有高污染濃度、高生物毒性等特性，依新制之放流水標準，對於氨氮廢水的處理是刻不容緩的。本文介紹以脫氣膜(MD)的處理方式，將廢水中的氨氮轉換為硫酸銨廢液，企圖將廢水...

按讚

0

點閱 (57)

2012.7, Vol.07 / 特別企劃

文 | 丁瑞華 | 新廠營建部 | 陳國益 | 兆聯實業股份有限公司 |

含氨 (Ammonia) 的鹼性廢水是半導體廠棘手的問題，因為水中除了氨外，往往還伴隨著高濃度的雙氧水。以回收的方式來濃縮廢水中的氨，並導入脫氣膜 (Membrane Degasifier) 與硫酸反應生成硫酸氨。...

按讚

0

點閱 (66)