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2022.12, Vol.48 / 技術專文
The Study of technology of Cleaning 2B3T Anion Resin of Ultrapure Water System
超純水系統之2B3T陰樹脂清洗技術探討
文 | 韓華楊 | 南京廠務部 |
超純水系統中TOC的濃度管控對於高品質供水至關重要。TSMC各廠區在更換2B3T弱陰樹脂過程中面對在樹脂上線初期高濃度TOC殘留的問題，均通過線上多次再生清洗的方式來洗淨新樹脂。本文介紹南京廠建制的線下樹脂清洗裝置...

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2021.12, Vol.44 / 技術專文
The defense and strategy against small molecule TOC in UPW system
純水小分子TOC的防禦與對策
文 | 楊昀瑍 | 台南廠務九部 | 傅正貴 | 台南廠務九部 |
隨著半導體製程的精進(N5→N3製程)，使用的超純水越趨純淨，其中總有機碳(TOC)過高將導致晶圓表面氧化及結晶缺陷，導致蝕刻不均、清洗效率不佳。各廠廠務超純水系統對TOC素有極高的去除效率(POU出口已...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文
Defense Mechanism of Outside Air AMC MeCl2　　　　　　　　
外氣AMC MeCl2防禦機制
文 | 陳睿森 | 南科廠務1廠務一部 |
半導體的線寬越來精細，製程的複雜度越來越高，相對製程良率受外在環境影響的可能性也越來越大，氣態分子汙染物(Airborne Molecular Contamination, AMC) 一直都是受到關注的對象，也因為製程的...

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