TSMC 廠務季刊

2022.12, Vol.48 / 技術專文

文 | 蔡宇軒 | 何顯利 | 新廠設計部 |

半導體界近年積極開發工業再生水技術，將自身排放的工業廢水再製供前段製程重新使用，廢水中不易被水處理系統去除的短碳鏈全氟化合物，雖然台灣目前未有制訂法規管制排放濃度，但已開始被重視是否影響再生水水質。本研究探討多方文...

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2020.6, Vol.36 / 技術專文

文 | 曾宏升 | 蔡宇軒 | 王世民 | 竹科廠務五部水處理二課 |

台積竹科十二吋廠區生產先進製程晶圓，其機台將排放含鈷廢水，排放規劃則依據排水含鈷濃度從機台進行分流，低濃度含鈷廢水(<100mg/L)導入鈷樹脂提濃系統處理，高濃度廢液(2,300mg/L)委外清運，隨著先進製程產...

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2017.9, Vol.27 / 技術專文

文 | 蔡宇軒 | 王世民 | 竹科廠務三部 |

對半導體製造業大廠而言，水資源高度依賴與廢水排放品質，視為汙染減量與環境改善之標竿，2016年新設之逆滲透二段濃縮處理設備，負責進階回收內含氫氟酸廢水與廢氣洗滌塔廢水之逆滲透濃縮廢水，該廢水導電度極高，並內含多種化...

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2015.9, Vol.19 / 技術專文

文 | 蔡宇軒 | 王正維 | 陳生鵬 | 竹科廠務三部 |

對半導體製造業大廠而言，水資源的高度依賴性與廢水排放需求，為汙染減量與環境改善之標竿，近年政府特別將氨氮廢水視為重點改善目標，各科學園區藉由訂定放流汙水納管限值或規劃除氮廢水系統積極因應，面對日益嚴格之氨氮減量管制...

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