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2022.12, Vol.48 / 技術專文
The Study of technology of Cleaning 2B3T Anion Resin of Ultrapure Water System
超純水系統之2B3T陰樹脂清洗技術探討
文 | 韓華楊 | 南京廠務部 |
超純水系統中TOC的濃度管控對於高品質供水至關重要。TSMC各廠區在更換2B3T弱陰樹脂過程中面對在樹脂上線初期高濃度TOC殘留的問題，均通過線上多次再生清洗的方式來洗淨新樹脂。本文介紹南京廠建制的線下樹脂清洗裝置...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文
A Study of Ultrapure Water Nanoparticle Detection Technologies
談超純水 奈米顆粒偵測技術
文 | 林恩添 | 新廠設計部 |
對於液體中顆粒數量之檢測，現今大都以雷射散射法作為判斷依據，受限於光學繞射極限，要偵測到 20nm 以下之奈米顆粒有很高難度，特別是在液體中顆粒數量稀薄的狀況下，如超純水；同時，超純水的奈米顆粒潔淨度又與半導體製程...

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2016.9, Vol.23 / 技術專文
Study on New Type of UV in TOC Removal Capability and Operation Benefit in UPW System
新型紫外線裝置對超純水總有機碳去除效率探討及效益分析
文 | 楊文守 | 林京歐 | 南科廠務四部 |
近年來半導體技術不斷演進，元件線寬越來越精密，製程環境中微量污染物將影響產品良率，微量有機物之去除是穩定超純水水質、提升良率之關鍵。一般而言，UPW中有機物質常以總有機碳表示，而UV是UPW系統中去除TOC之關鍵角...

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