摘要

新型紫外線裝置對超純水總有機碳去除效率探討及效益分析
近年來半導體技術不斷演進,元件線寬越來越精密,製程環境中微量污染物將影響產品良率,微量有機物之去除是穩定超純水水質、提升良率之關鍵。一般而言,UPW中有機物質常以總有機碳表示,而UV是UPW系統中去除TOC之關鍵角色。十四廠七期為本公司率先於UPW系統使用新型UV裝置的廠房,本文以其為案例,分析新舊型UV TOC去除效率並探討使用效益。
前言
半導體製造過程中,超純水(Ultrapure water,以下簡稱UPW)主要用於去除蝕刻製程殘留於晶圓上的化學藥品、化學機械研磨後的清洗以及去除微影製程的殘留光阻,以避免汙染晶圓[1]。然而半導體製造技術不斷進步,元件線寬越來越精密,製造環境中微汙染物控制也日益嚴格,因此UPW的品質與製程良率有著密切關係,其中總有機碳(Total Organic Carbon, ,以下簡稱TOC)為重要水質指標之一,而UPW系統中的紫外線裝置(Ultraviolet,以下簡稱UV)單元是能有效降低TOC的關鍵角色。
因應製程對於UPW的要求,UPW製造技術亦不斷演進。本公司十四廠七期率先採用新型UV,本文針對新舊型UV TOC去除效率進行比較,參考對象為十四廠五/六期UPW系統,並針對使用新型UV所帶來的效益進行分析,以期作為後續使用廠區參考。
文獻回顧
超純水系統介紹
常見的超純水製造技術包含混凝沉降(Coagulation settlement)、物理吸附(Adsorption)、膜過濾(Filtra-tion)、離子交換(Ion exchange)、脫氣(Degas)、殺菌消毒(Disin-fection),將上述製造技術依水質需求排列組合後即組成UPW系統[2]。然而UPW系統可分成前處理系統(pre-treatment system)、一次純水系統(make-up system)及精煉系統(polishing system)三大部分來討論,前處理系統主要目的為過濾原水(Raw water)中的懸濁粒子或膠質粒子,確保後續處理單元能有效運轉;一次純水系統主要目的為去除水中大部分的離子、有機物、微粒子及溶氧;精煉系統主要目的為去除一次純水系統處理後殘留的微量不純物,製造出高品質的超純水供使用端(Point of use,以下簡稱POU)使用。為確保UPW在供水管路內能持續循環流動,因此進入POU前會配置UPW回水管路(UPWR),將部分UPW回送至精煉系統。為確保POU各點供水量一致,因此採用reverse return管路設計,避免因短流導致不純物產生。POU使用後部分UPW經水質檢測合乎DIR允收標準,即可回收至前處理系統再利用,增加水回收率。UPW系統流程示意如 圖1。
圖1、超純水系統流程示意

本公司十二吋廠UPW系統單元流程如 圖2所示。原水經前處理系統多層砂濾塔(Multi Media Filter,以下簡稱MMF)過濾水中之懸濁粒子或膠質粒子後進入一次純水系統,再經活性碳塔(Activated Carbon Filter,以下簡稱ACF)、陽床/陰床樹脂過濾塔(Cation/Anion Exchanger,以下簡稱2B3T)、熱交換器(Heat exchanger,以下簡稱HEX)、逆滲透膜(Reverse Osmo-sis,以下簡稱RO)、UV、分層樹脂過濾塔(Strata Bed Polisher,以下簡稱SB-P)、脫氣膜(Membrane Degasify,以下簡稱MDG)等單元處裡後進入精煉系統,經HEX、UV、精鍊樹脂塔(Cartridge Polisher,以下簡稱CP)、MDG及超過濾膜(Ultra Filter,以下簡稱UF)等單元處理後供給POU使用[3]。
圖2、超純水系統單元流程

總有機碳說明
水中的有機物都以碳、氫、氧為基本元素,依不同比例組合形成不同的有機物,從總有機碳之測定值可判斷水中有機物之污染程度。根據環保署全國水質偵測資訊網[4]的定義,TOC為水體中可氧化的有機物全量,也就是指每公升水中有機污染物之碳毫克數,對有機物含量極低的水而言,測定TOC是檢驗水中含有機物量的極佳方法。在UPW系統中,能有效去除TOC的處理單元為ACF、RO及UV。
UV去除TOC原理說明
UV燈管是密閉的氣體放電管,當燈管通電時,藉由兩端的白熱燈絲引起化學反應放出電子,燈管內的水銀因高溫蒸發成氣體,水銀原子藉由氣體放電的過程釋放出紫外光,主要波長為254nm及185nm。所消耗的電能約60%可轉換成紫外光,其它能量轉換成熱能。UV主要用於殺菌,以254nm的UV殺菌效果最佳,另配合短波長185nm的UV可以有效分解水中TOC,其一般反應式如 圖3。
圖3、紫外線分解總有機碳反應式

UV去除TOC的原理為,185nm的UV會裂解氧(O2)轉換成臭氧(O3),經254nm UV進一步催化後產生氫氧自由基(OH-),氫氧自由基具有強烈的氧化作用可將TOC斷鍵,若有足夠的時間及能量,會產生一系列化學氧化反應,最後將剩下H2O及CO2,所以UV可有效降低水中TOC濃度。
由廠內TOC去除效果探討純水系統中UV的貢獻
UPW系統各單元對於TOC的去除皆扮演不同角色,前段單元將水中大部分的TOC去除,而中後段單元則將水質更進一步的精煉。十四廠七期UPW系統TOC實際去除效果如 圖4,由此圖可得知在TOC小於1ppb時,UV結合離子交換樹脂可以發揮良好的效果,使POU端水質能維持小於 0.5ppb的TOC濃度。
圖4、十四廠七期超純水系統總有機碳實際去除效果

新舊型UV TOC去除效率比較
實驗方法
為比較新舊型UV之TOC去除效率差異,因此設計以下實驗方法,實驗地點位於十四廠七期超純水系統主承商之日本實驗室。以20ppb的甲醇溶液作為進流水,仿照超純水系統單元流程,進流水經UV照射後再進入混床樹脂以便攔截被斷鍵之TOC分子,在UV入口及混床樹脂出口架設分析儀器量測TOC讀值,即可計算出TOC去除效率。此外,為看出不同流量條件下TOC去除效率之變化,因此在繪製圖表上X軸以「單位流量所消耗之電力」(kWh/m3)來表示,Y軸以「TOC去除效率」(%)表示。 圖5為實驗方法示意圖。
圖5、去除效率實驗方法示意

實驗結果
圖6為新舊型UV TOC去除效率實驗結果,由此圖可知無論在何種流量條件下,新型UV TOC去除效率皆優於舊型UV。此外,新型UV使用一年後與新品的TOC去除效率無明顯差異,舊型UV使用一年後與新品去除效率差異大,平均約減少30%的去除效率。以單位流量消耗電力0.12 kWh/m3為例,新型UV新品及使用一年後皆有約95%的去除效率,反觀舊型UV新品去除效率約89%,使用一年後僅剩下55%。
圖6、去除效率實驗結果

若以使用一年後TOC去除效率仍維持90%的觀點來看,新型UV單位流量消耗電力為0.08 kWh/m3,舊型UV為0.28 kWh/m3,由此可知新型UV效能為舊型UV的3.5倍。
新舊型UV技術差異探討
新型UV有兩項改良指標,分別為UV照度維持時間延長及UV透射能力增強。照度維持時間能夠延長的主要改良為,新型UV燈管內壁使用無機物的塗佈(Coating)。一般而言,UV燈隨著使用時間的拉長,燈管會逐漸顯現茶褐色物質。此茶褐色物質為燈管內部與紫外線反應的生成物,而這些附著在燈管的生成物會吸收掉一部分的紫外線。塗佈的目的即為抑制這些生成物附著,進而延長UV照度的維持時間。
在UV透射能力增強的部分,比較新舊UV的石英外管(Quartz),可以發現原料純度有大幅度的提升。新型UV使用純度更高的石英原料製作外管,故UV透射率變高,TOC的分解能力也比較高。以舊型UV的石英外管作為基準來比較時,可以發現新型UV的透過率高出33%。 表1為兩種型態的石英外管不純物成分及紫外線透過率比較。
|
高純度石英(新型UV) |
普通石英(舊型UV) |
---|---|---|
Al |
0.2 |
15 |
Fe |
<0.1 |
0.2 |
Na |
<0.1 |
0.8 |
K |
<0.3 |
0.6 |
Cu |
<0.1 |
<0.05 |
OH |
<200 |
<5 |
UV 185nm透過率(新品) |
133.0% |
100.0% |
UV 185nm透過率(使用一年) |
130.0% |
87.5% |
新型UV效益分析
節能效益分析
由上述實驗結果可知,在相同TOC去除效率下,新型UV效能約為舊型UV的3.5倍,而由供應商所提供的資料得知,新舊型UV單一chamber的耗電量皆為6.7kW[5],因此可推論新型UV通過單一chamber的流量也會是舊型UV的3.5倍,如此一來使用新型UV後chamber數量將會大幅減少。以十四廠七期UPW系統為例,前段make up系統設計流量為770CMH,選用新型UV且假設使用一年後TOC去除率需達90%,由 圖6可看出對應的單位流量所消耗電力為0.07 kWh/m3(即單一chamber流量為95.71CMH),因此可計算出前段make up系統需要8個chamber的UV即可達到90% TOC去除效率。反之,若選用舊型UV,則需28個chamber才可達到相同效果。
表2整理出十四廠七期使用新舊型UV消耗電力及費用比較,舊型UV數量以新型UV的3.5倍推算,若有小數點則無條件進位,且考量系統N+1設計,因此以N為基準計算舊型UV數量。由此表格可看出,新型UV每小時總電力消耗為134 kWh,舊型UV每小時總電力消耗為382 kWh,使用新型UV每年約考節省電力210萬度,每年約可節省電費540萬元。
New type UV |
Old type UV |
||
---|---|---|---|
Make-up |
Chamber Qty. |
7+1 |
25+1 |
Power consumption per chamber (kW·h) |
6.7 |
6.7 |
|
Total power consumption (kW·h) |
53.6 |
174.2 |
|
Polishing |
Chamber Qty. |
7+5 |
26+5 |
Power consumption per chamber (kW·h) |
6.7 |
6.7 |
|
Total power consumption (kW·h) |
80.4 |
207.7 |
|
UPW system total power consumption (kW·h) |
134 |
382 |
|
Unit price (NT/kW·h) |
2.5 |
2.5 |
|
Cost (NT/year) |
$2,934,600 |
$8,363,610 |
節省耗材更換成本分析
依照以往UPW系統運轉經驗,UV燈管(Lamp)需每年更換,石英外管(Quartz)及O型環(O-ring)每二年更換,而新舊型UV燈管單價差異較大,因此本節針對UV燈管進行耗材更換成本分析。
表3整理出使用新舊型UV耗材更換成本之差異,chamber數量依照 表2所推估之數量,新舊型UV單一chamber皆為40支燈管,單價部分以供應商報價為基準。由以下表格可得知,新型UV燈管單價明顯高於舊型UV,但因數量大幅減少,因此每年耗材更換成本仍可節省約100萬元。
|
New type UV |
Old type UV |
---|---|---|
UV chamber Q'ty |
20 |
57 |
UV Lamp Q'ty |
800 |
2280 |
UV Lamp unit price(NT) |
$14,700 |
$5,600 |
total cost(NT) |
$11,760,000 |
$12,768,000 |
廠內實際運轉表現探討
為探討新舊型UV實際運轉上之差異,因此本節將比較十四廠五/六/七期UPW系統UV的運轉表現,其中十四廠五/六期使用舊型UV,十四廠七期採用新型UV。
表4為廠內實際運轉電流量測比較,量測位置為UV動力電盤。由前段可知新舊型UV功率皆為6.7kW,然而兩者使用的安定器(ballast)種類不同,因此有不同功率因素(Power factor)。舊型UV使用的安定器功率因素約為0.8;新型UV安定器的功率因素則約接近1.0。因功率因素不同,使得運轉電流有些許差異,但換算回功率後新舊型UV單一chamber能耗無太大差異。
|
十四廠七期(新型UV) |
十四廠六期(舊型UV) |
---|---|---|
動力盤 |
三相 / 480伏特 |
三相 / 480伏特 |
單相平均電流(A) |
7.9 |
10.4 |
電壓(V) |
480 |
480 |
功率因素 |
1.0 |
0.8 |
功率(kW) |
6.6 |
6.9 |
圖7為十四廠五/六/七期每一公噸UPW所花費的UV電力費用比較,電力費用以實際UV數量計算,水量以系統設計水量為基準。以十四廠五/六期來看,使用舊型UV處理每一公噸UPW的電費約落在0.4-0.5元之間,而十四廠七期使用新型UV處理每一公噸UPW的電費約為0.2元。
圖7、十四廠五/六/七期紫外線裝置運轉電費比較

運轉操作手法探討
新型UV因效能提升,安裝數量較舊型UV大幅減少,本節將探討UV更換期間對供應水質的影響,以及如何藉由運轉操作手法來降低此影響。
十四廠七期於系統試俥階段時曾進行切離單套UV的實驗,就當時結果顯示,POU TOC濃度約上升0.05 ppb,而此水質變異可藉由運轉操作手法來降低。在日常運轉階段需控管UV燈管開啟數量,以兩套UV為例,當兩套UV皆關閉33%的燈管時,系統處理能力由200%下降134%,但因系統為N+1設計,因此仍在系統可處理範圍內。而在更換耗材時,則將另一套UV燈管全部開啟,此時系統處理能力為100%,藉由此操作方式可將水質變異幅度降低,其概念如 圖8所示。
圖8、降低水質變異操作手法示意

結論
本文針對十四廠七期所使用的新型UV進行研究,分析新舊型UV TOC去除效率並探討使用效益,以期作為後續使用廠區參考。
在TOC去除效率部分,新型UV使用一年後與新品的去除效率無明顯差異,舊型UV使用一年後與新品效能差異大,平均約減少30%的去除效率。在相同TOC去除效率的基準下,新型UV效能約為舊型UV的3.5倍。在使用效益部分,新型UV所需chamber數量大幅減少,除了節省佔地空間,每年更能節省電力210萬度,每年可節省電費約540萬元。最後,新型UV單價雖高於舊型UV,但因數量大幅減少,因此每年耗材更換成本仍可節省約100萬元。
參考文獻
- 陳仁仲,「半導體產業用水處理技術發展」,工研院季報簡報資料,工研院能資所(1997)
- 莊順興、柯貴城、歐陽嶠暉,「超純水製造技術」,工業污染防治,第107期,第145–163頁 (2008)
- 蕭嘉榮,「半導體廠廠務超純水系統設計流程管理研究」,國立成功大學工學院工程管理碩士在職專班碩士論文(2011)
- 環保署全國水質偵測資訊網http://wq.epa.gov.tw/code/Station.aspx
- 奧璐佳瑙科技股份有限公司,「Photo-science Japan TPH-20 技術資料」(2013)
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