Vol.51 / 技術專文
Discussion of the ability of Salix to capture ammonium salt droplets and the outlook of VOCs flow at Polymer/PR Stripping process.
Salix應用於Polymer/PR Stripping之銨鹽類霧滴捕捉能力提升與VOCs流向展望
Polymer/PR Stripping 濕製程使用Wet Bench常見的高溫硫酸(SPM)與NH4OH,並同時利用IPA洗滌Wafer表面,故在製程尾氣處理具有酸性氣體與有機物(VOCs)...

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Vol.35 / 技術專文
Reduction Strategy for Sulfuric Acid Emission of Stack in Semiconductor Industry
半導體業煙道硫酸排放減量策略
在12吋晶圓廠中隨著產能不斷提升,排氣風量與硫酸使用量增加,硫酸排放總量逐漸受到主管機關的重視。以最新12吋晶圓廠為例,使用硫酸的最大來源是高溫硫酸製程機台及廠務桶槽,參考文獻研究顯示處理廢氣入口濃度越高洗滌塔處理...

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