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2022.12, Vol.48 / 技術專文
Source management and reduction of Wastewater Management Indicator "Acetone" in Advanced Process Plants
先進製程廠區污水納管指標「丙酮」之源頭管理與減量對策
文 | 林雋凱 | 新竹廠務六部 | 洪士超 | 新竹廠務六部 | 吳貴弘 | 新竹廠務四部 |
自2021年5月21日起科管局將放流丙酮列為管制項目(<5mg/L)，並將其劃分為三個級距徵收污水費，其中廠區因製程原料廢水中異丙醇(晶圓乾燥使用)與氧化劑(雙氧水居多，作為晶圓清洗使用)反應產生丙酮，導致放流水丙...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文
Zero Contamination Supply Roadmap of AMC
AMC潔淨空氣展望
文 | 葉彥甫 | 新廠設計部 |
隨著半導體製程製程的演進，AMC(Airborne Molecular Contamination)對於製程的良率越來越重要，現行存在於MC中的低分子量汙染物(IPA/Acetone)為目前台積電半導體製程的良率瓶頸，為...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文
Defense Mechanism of Outside Air AMC MeCl2　　　　　　　　
外氣AMC MeCl2防禦機制
文 | 陳睿森 | 南科廠務1廠務一部 |
半導體的線寬越來精細，製程的複雜度越來越高，相對製程良率受外在環境影響的可能性也越來越大，氣態分子汙染物(Airborne Molecular Contamination, AMC) 一直都是受到關注的對象，也因為製程的...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文
Research and Defense of Air Pollution Impact on AMC
空污對微污染影響的探討與防禦
文 | 王威凱 | 中科廠務一部 |
隨著半導體導線線徑的縮減及製程發展的演進，氣態分子污染物(AMC)的管制及監控方式也更受重視，面臨微污染物威脅，必須要有完整監測系統搭配防治計畫，除了無塵室環境內機台或者是人為污染管控外，外氣污染也是相當大的考驗，目前大...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文
No AMC Contamination–IPA/Acetone Concentration Improvement in CleanRoom
AMC零污染–無塵室異丙醇及丙酮濃度改善
文 | 楊尊中 | 陳民軒 | 中科廠務三部 |
從10奈米製程以降，清洗晶片的機台大量使用異丙醇、硫酸、雙氧水等化學品進行清洗，因其尾氣混排至酸性洗滌塔，未能有效處理的異丙醇及丙酮容易伴隨外氣進入無塵室。因現有處理有機物的化學濾網未能有效吸附這些小分子量的氣體，使無塵...

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